[发明专利]等离子体处理设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，用于在维持于真空状态的室中产生等 离子体并使用所述等离子体处理基板，包括：

上和下电极，分别提供在所述室的上面和下面部分中，用 于将高频功率施加到所述室中；

淋浴头，连接到从所述上电极的下表面向下突出的边缘部 分，以形成扩散空间，过程气体在所述扩散空间被扩散，所述 淋浴头将已扩散的过程气体扩散到所述室中；

制冷剂通道，在水平方向通过所述上电极，用于为通过从 外部供应的制冷剂而提供通路；

热传输单元，设置在所述扩散空间中穿过所述空间，用于 将所述淋浴头的热传输到所述上电极，所述热传输单元的一端 与所述淋浴头的上表面接触，而所述热传输单元的另一端与所 述上电极的下表面接触；以及

制冷剂循环单元，连接到所述制冷剂通道的两端，用于将 所述制冷剂供应到所述制冷剂通道的一端并从所述制冷剂通 道的另一端收集所述制冷剂。

2.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其中所述热传输单元 由具有高的热传导率的金属制成。

3.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其中所述热传输单元 包括由指定间隔彼此分离的多个热传输销。

4.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其中所述热传输单元 包括由指定间隔彼此分离的多个热传输板。

5.如权利要求4所述的等离子体处理设备，其中用于通过所述过 程气体的多个孔在水平方向通过所述热传输板而形成。

6.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其中所述热传输单元 包括热传输格构。

7.如权利要求6所述的等离子体处理设备，其中用于通过所述过 程气体的多个孔在水平方向通过所述热传输格构而形成。