[发明专利]图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成方法，其特征在于，包括以下工序：

成膜工序，在基板上形成对可见光灵敏度低、对含有紫外光或近紫外光的能线灵敏度高的第一感光性材料的膜；

形成工序，在上述第一感光性材料上形成对可见光的灵敏度比上述第一感光性材料还高的第二感光性材料；

第一曝光工序，使用照射由上述可见光构成的曝光光的无掩模直接描画曝光装置、对上述第二感光性材料描画第二图案；

第一显像工序，用显像液处理该已描画的第二感光性材料而形成第二图案；

第二曝光工序，对形成在上述第一感光性材料上的上述第二感光性材料一起照射含有上述紫外光或近紫外光的能线，对上述第一感光性材料转印上述第二图案而使第一图案曝光；

剥离工序，从该第二曝光工序中已曝光的第一感光性材料上除去上述第二感光性材料；

第二显像工序，用显像液处理该剥离工序中残留下的第一感光性材料，形成上述第一图案。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于，上述第一感光性材料用感光性阻焊剂形成，上述第二感光性材料具有由卤化银层构成的感光性材料层。

3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，在上述第二曝光工序中，对在上述第一感光性材料上已形成的上述第二感光性材料，在面内均匀地照射含有上述紫外光或近紫外光的能线。

4.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，上述第一感光性材料的反应型是负片型，且上述第二感光性材料的反应型是负片型。

5.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，上述第一感光性材料的反应型是负片型，且上述第二感光性材料的反应型是正片型。

6.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，上述第二感光性材料是具有在支撑体上形成膜的、对可见光灵敏度高的感光性材料层和在相反的面上实施了分型处理的分型处理面的叠层结构。

7.根据权利要求6所述的图案形成方法，其特征在于，上述分型处理面能在70℃以下对形成了上述第一感光性材料的上述基板形成膜。

8.根据权利要求6所述的图案形成方法，其特征在于，上述支撑体及上述分型处理面是非感光性，且由透明材料形成。

9.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，在上述第二曝光工序中，一起照射含有上述紫外光或近紫外光的能线时，在上述第一显像工序中已形成在上述第二感光性材料上的第二图案具有掩模图案的作用。

10.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，在上述第一曝光工序中，对上述第二感光性材料描画第二图案时，控制由上述可见光构成的曝光光对上述第二感光性材料的照射量，使上述第一感光性材料感光而未开始硬化。