[发明专利]光测量装置和扫描光学系统无效
| 申请号: | 200810170559.3 | 申请日: | 2008-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN101424568A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
| 发明(设计)人: | 松浦康二 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
| 主分类号: | G01J1/00 | 分类号: | G01J1/00;G01J1/04;G01J3/06 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余 刚;吴孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测量 装置 扫描 光学系统 | ||
1.一种用于测量来自平面光源的光的光测量装置,包括:
空间分割装置,被配置为执行用于连续取入来自所述平面光源的不同部分的光的操作;
光学聚集装置,被配置为聚集通过所述空间分割装置的操作而取入的来自所述平面光源的不同部分的光;
检测器,被配置为接收由所述光学聚集装置聚集的光并输出对应于所接收光的信号;
定位光源,能够响应于所述空间分割装置的操作,将光连续投射到所述平面光源的不同部分;以及
控制装置,能够存储当来自所述定位光源的所述光投射到在所述平面光源上提供的标记上时的位置,并被配置为控制所述空间分割装置,以基于所存储的位置连续偏转来自所述平面光源的不同部分的光。
2.根据权利要求1所述的光测量装置,其中,所述光学聚集装置包括:
第一隔膜元件,其中形成有第一开口,所述第一开口透射来自所述平面光源的不同部分中的任一部分的光,同时限定所述光的横截面;
第二隔膜元件,其中形成有第二开口,所述第二开口的开口面积小于所述第一开口的开口面积,所述第二开口透射通过所述第一隔膜元件透射的光,同时限定所述光的横截面;以及
聚集光学元件,被配置为使通过所述第二隔膜元件透射的光聚集于所述检测器的光接收面上。
3.根据权利要求1所述的光测量装置,其中,所述光学聚集装置包括:
隔膜元件,其中形成有开口,所述开口透射来自所述平面光源的不同部分中的任一部分的光,同时限定所述光的横截面;以及
远心透镜,被配置为接收从所述隔膜元件向其透射并在其与所述隔膜元件相邻的侧面上远心聚焦的光。
4.根据权利要求3所述的光测量装置,还包括:中继光学元件,被配置为将从所述远心透镜出射的光聚集在所述检测器的光接收面上。
5.根据权利要求1所述的光测量装置,其中,所述光学聚集装置包括:
第一隔膜元件,其中形成有第一开口,所述第一开口透射来自所述平面光源的不同部分中的任一部分的光,同时限定所述光的横截面;
目标光学元件,被配置为聚集通过所述第一隔膜元件透射的光;以及
第二隔膜元件,位于所述目标光学元件的后侧上的焦点处,且其中形成有第二开口,所述第二开口透射通过所述目标光学元件聚集的光,同时限定所述光的横截面。
6.根据权利要求5所述的光测量装置,还包括:中继光学元件,被配置为使通过所述第二隔膜元件透射的光聚集在所述检测器的光接收面上。
7.根据权利要求1所述的光测量装置,还包括:扩散器,被配置为接收由所述光学聚集装置聚集并向其投射的光;
所述检测器,以与所述扩散器间隔预定距离的关系放置,以使所述扩散器中投射有光的区域被包括在所述检测器可以取入光的角度中。
8.一种用于部分提取来自平面光源的光的扫描光学系统,包括:
空间分割装置,被配置为连续取入来自所述平面光源的不同部分的光;
光学聚集装置,被配置为聚集通过所述空间分割装置的操作取入的来自所述平面光源的不同部分的光;
定位光源,能够响应于所述空间分割装置的操作,将光连续投射到所述平面光源的不同部分;以及
控制装置,能够存储当来自所述定位光源的所述光投射到在所述平面光源上提供的标记上时的位置,并被配置为控制所述空间分割装置,以基于所存储的位置连续偏转来自所述平面光源的不同部分的光。
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