[发明专利]投影型图像显示装置有效
| 申请号: | 200810168369.8 | 申请日: | 2006-08-09 |
| 公开(公告)号: | CN101387819A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
| 发明(设计)人: | 清水拓也;加藤健太郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G03B21/28;G03B21/14;G03B21/00;H04N5/74;H04N9/31 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 图像 显示装置 | ||
1.一种投影型图像显示装置,其特征在于,包括:
光源;
来自光源的光依次透过的第一阵列透镜和第二阵列透镜;
调制透过了所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜的光的光阀;
投影所述光阀调制过的光的投影透镜;以及
将从所述光源到所述光阀间的光加以遮挡的遮光单元,
所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜分别具有配置为矩阵状的 多个透镜元件,
所述第一阵列透镜设计为所述光源与所述第二阵列透镜的各透镜 元件呈相互共轭关系,
所述遮光单元通过遮光板的回旋或移动使遮光状态变化,按照如 下方式进行遮光:当所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜的多个透 镜元件中的一部分透镜元件部分地或完全地遮光时,在所述多个透镜 元件的被部分地遮光的透镜元件中,所述遮光单元的遮光量最小时照 度影响程度最高的透镜元件的开口面积,比所述多个透镜元件的被部 分地遮光的透镜元件中其他透镜元件的开口面积大。
2.如权利要求1所述的投影型图像显示装置,其特征在于:
所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜的多个透镜元件分别排列 在相对于在与光轴垂直的平面内通过光轴且正交的两轴平行的方向 上,
基于所述遮光元件的所述多个透镜元件的遮光区的形状是关于光 轴通过的阵列透镜的中心为点对称。
3.如权利要求1所述的投影型图像显示装置,其特征在于:
所述遮光单元在所述遮光状态下,将所述遮光单元不遮光时光量 的80%以上遮光。
4.一种投影型图像显示装置,其特征在于,包括:
光源;
来自光源的光依次透过的第一阵列透镜和第二阵列透镜;
调制透过了所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜的光的光阀;
投影所述光阀调制过的光的投影透镜;以及
将从所述光源到所述光阀间的光加以遮挡的遮光单元,
所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜分别具有配置为矩阵状的 多个透镜元件,
所述第一阵列透镜设计为所述光源与所述第二阵列透镜的各透镜 元件呈相互共轭关系,
所述遮光单元的遮光状态是,
通过遮光板的回旋或移动来使遮光量变化,当所述第一阵列透镜 和所述第二阵列透镜的多个透镜元件中的一部分透镜元件部分地或完 全地遮光时,所述遮光单元的遮光量最小时照度影响程度最高的透镜 元件的开口面积,比其他透镜元件的开口面积大。
5.如权利要求4所述的投影型图像显示装置,其特征在于:
所述第一阵列透镜和所述第二阵列透镜的多个透镜元件分别排列 在相对于在与光轴垂直的平面内通过光轴且正交的两轴平行的方向 上,
基于所述遮光单元的所述多个透镜元件的遮光区的形状是关于光 轴通过的阵列透镜的中心为点对称。
6.如权利要求4所述的投影型图像显示装置,其特征在于:
所述遮光单元在所述遮光状态下,将所述遮光单元不遮光时光量 的80%以上遮光。
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