[发明专利]离子束导管

权利要求书

1.一种用于离子注入器中的离子束导管，该导管在该注入器中位于与待 注入晶片相邻的位置，以在注入期间限制用于晶片中和的带电粒子，该导管 包括一个或多个壁，所述一个或多个壁限定了穿过该导管以允许离子束通过 的中心钻孔，其中所述一个或多个壁被构成为使得该中心钻孔逐渐变细。

2.如权利要求1的导管，其中该导管具有多个平端部，以使该导管不具 有窄于相邻钻孔的进入孔和/或排出孔。

3.如权利要求2的导管，其中该导管平滑地逐渐变细，以便在该中心钻 孔延伸穿过该进入孔和/或排出孔时，该中心钻孔的尺寸不会出现台阶式变 化。

4.如权利要求3的导管，其中该导管平滑地逐渐变细，以便在沿着其长 度方向的任何位置该中心钻孔的尺寸都不会出现台阶式变化。

5.如前述任一项权利要求的导管，其中该中心钻孔均匀地逐渐变细。

6.如权利要求1的导管，其中该中心钻孔由多个壁限定，每个壁都被构 成为使得该钻孔逐渐变细。

7.如权利要求1的导管，其中该导管具有纵轴，以及用于沿着该纵轴接 收离子束的多个开口端，其中用以限定基本平行于该纵轴设置的中心钻孔的 壁设有穿过管壁的至少一个开口，以形成从该导管的内部到外部的导气通 路，该通路在长度方向上与该纵轴呈锐角，并在横向于该长度方向的方向上 具有最小尺寸，以使垂直于该纵轴而穿过该通路的视准线基本上被遮蔽。

8.如权利要求7的导管，其中该通路被形成为横向于该纵轴的狭槽，该 狭槽穿过在横向于该通路长度方向的方向上具有主要尺寸的壁。

9.如权利要求1的导管，其中该导管表面被粗糙化。

10.如权利要求9的导管，其中将该表面粗糙化为设置一系列沟槽。

11.如权利要求10的导管，其中该表面的部分被粗糙化为设置两组沟槽， 其为交叉的并排沟槽。

12.如权利要求1的导管，其中该导管不具有窄于相邻钻孔的进入孔和/ 或排出孔。

13.一种离子注入器，其具有根据前述任一项权利要求的导管。

14.如权利要求13的离子注入器，其中该导管在穿过该离子注入器行进 的离子束的方向上向外逐渐变细。