[发明专利]阀及使用该阀的基底处理设备和方法

说明书

相关申请的交叉引用

本美国非临时专利申请按照35U.S.C.§119要求2007年10月12日提交的韩国专利申请No.10-2007-0102975的优先权，在此通过引用将该韩国专利申请的全部内容并入此处。 

技术领域

这里所公开的本发明涉及具有处理溶液传感器的阀，并且涉及使用该阀的用于处理基底的设备和方法，更具体地说，涉及可以延长产品寿命并提高处理效率的具有处理溶液传感器的阀，并且具体涉及使用该阀的用于处理基底的设备和方法。

背景技术

诸如半导体存储装置或平板显示装置的电子装置包括基底。基底可以是硅片或者玻璃基底。多个导电层图形形成于基底上，并且用于绝缘的介电图形在多个导电层图形的每个之间形成。导电层图形或介电图形通过进行诸如暴露、显影、蚀刻和清洗的一系列处理而形成。

一部分处理涉及使用注有处理溶液的处理池。根据处理需要可以设置多个处理池。多个处理池可以注有用于完成相同处理的相同处理溶液，或者可以注有用于进行不同处理的不同处理溶液。并且，处理池可以包括注有清洗溶液的处理池，所述清洗溶液用于在基底已被处理之后清洗基底。

当清洗溶液用作处理溶液以清洗基底时，需要确定清洗完成的时间点以结束清洗处理。为了确定所述的完成时间点，可以使用与处理溶液接触的传感器，并且传感器暴露于清洗溶液中。然而，清洗溶液中可能会包含酸性成分，从而传感器可能因长时间地暴露于酸性成分中而被损坏，进而降低其使用寿命。

发明内容

本发明提供了一种具有处理溶液传感器的阀，该阀具有延长的产品寿命并提高了处理效率。

本发明还提供了采用了该阀的基底处理设备。

本发明进一步地提供了处理基底的方法，该方法可以应用于以上基底处理设备。

实施例包括具有处理溶液传感器的阀。所述阀包括主体、进口、出口、闸门和传感器。所述主体中设有通道，基底的处理溶液流经所述通道。所述进口与所述通道的一端相连，处理溶液通过所述进口流入所述主体。所述出口与所述通道的另一端相连，处理溶液通过所述出口排放至所述主体外。所述闸门用于在所述进口和通道相连的区域打开或关闭所述通道。所述传感器与主体接合以接触经过闸门流经所述通道的处理溶液并检测处理溶液的成分。

在一些实施例中，所述传感器可以测量处理溶液的比电阻。

在其它的实施例中，处理溶液可以包括纯水。这里，所述传感器可以检测纯水中所含有的氢氟酸的浓度。

在另外的实施例中，基底处理设备包括处理池、第一排放线路和第一阀。所述处理池盛有处理溶液以用于通过处理溶液处理基底。所述第一排放线路与所述处理池相连以用于排放处理溶液。所述第一阀安装在所述第一排放线路中。所述第一阀包括主体、进口、出口、闸门和传感器。所述主体中设有通道，处理溶液流经所述通道。所述进口与所述通道的一端相连，处理溶液通过所述进口流入所述主体。所述出口与所述通道的另一端相连，处理溶液通过所述出口排放至所述主体外。所述闸门用于在所述进口和通道相连的区域打开或关闭所述通道。所述传感器与主体接合以接触经过闸门流经所述通道的处理溶液并检测处理溶液的成分。

在一些实施例中，所述基底处理设备还包括与传感器相连以根据检测结果控制处理的结束的控制器。

在其它的实施例中，所述基底处理设备可以进一步地包括与所述处理池相连以排放处理溶液的第二排放线路，并且所述第二排放线路与第一排放线路接合。这里，所述处理池包括用于接收处理溶液的内池以及包围内池的外池，在所述内池中基底浸入到已接收的处理溶液中，所述外池用于接收从内池溢出的处理溶液。在这种情况下，所述第一排放线路可以与所述外池相连，所述第二排放线路可以与内池相连。这里，所述基底处理设备还可以包括与外池相连以排放处理溶液的第三排放线路，并且所述第三排放线路与所述第二排放线路接合。

在另一些实施例中，处理基底的方法包括在盛有处理溶液的处理池中进行基底的处理，打开与处理池相连的排放线路的通道，检测从排放线路排出的处理溶液的成分，以及根据检测结果结束处理，其中打开通道和检测成分在相同的位置进行。

在一些实施例中，所述处理可以是基底的清洗处理，并且处理溶液可以包括纯水。这里，成分的检测可以包括测量处理溶液的比电阻，以及还包括当比电阻大于基准值时结束处理。

在其它的实施例中，成分的检测可以包括测量处理溶液的比电阻，检测纯水中所包含的氢氟酸的浓度，以及当所测得的比电阻大于基准值时结束处理。

附图说明