[发明专利]一种新型高分子材料茁霉多糖的制备方法

权利要求书

1.一种新型高分子材料茁霉多糖的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)诱变处理

单孢子悬液制备：在斜面培养基上加入无菌水，用接种环刮取培养物表面的孢子，制成粗制的孢子悬液。将此悬液振荡20min，过滤悬液，制成孢子浓度约10个/ml的单孢子悬液。

微波-紫外复合诱变处理是在致死率＞95％的照射剂量下，先用微波诱变处理后，然后稀释涂布，28℃-30℃培养，然后挑选长势良好的菌株再进行紫外线诱变处理，接着稀释涂布，28℃-30℃培养。

(2)生产菌株的筛选

菌落初筛：将经诱变后的菌株培养，挑取菌落颜色淡化、形态异常或孢子含量丰富的菌株，斜面保存。

摇瓶初筛：将菌落初筛获得的变异菌株接种于发酵培养基中，摇瓶培养，选取多糖产量高的或色素含量明显减少的突变菌株，进行下一步摇瓶复筛。

摇瓶复筛：将摇瓶初筛选出的变异菌株继续摇瓶培养，选出多糖产量最高的菌株。

(3)茁霉多糖的生成

将摇瓶复筛得到的菌株先经过种子培养，然后转入发酵培养。最后将发酵液于4000r/min离心15min，分离上清液与菌体沉淀，将上清液加入2倍体积的无水乙醇，振荡摇匀，4℃放置过夜，使多糖充分沉淀，再4000r/min离心15min，弃上清，沉淀依次用丙酮、乙醚洗涤，80℃烘干至恒重，即得茁霉多糖。

2.根据权利(1)中所说的诱变处理，其特征在于所用的斜面培养基为马铃薯葡萄糖琼脂培养基(PDA)：马铃薯300g/L，葡萄糖20g/L，琼脂20g/L，氯霉素0.1g/L，121℃高压灭菌20min。微波处理的条件是频率2450Hz，功率为800W，处理时间为140-160s；紫外线诱变处理的条件是：用15W的紫外灯，距离固定在30cm左右，照射时间为60-70s。

3.根据权利(2)中所说的生产菌的筛选，其特征在于诱变后的菌株28℃培养3-5d，然后4℃放置6-8d。

4.根据权利要求(3)中所说的茁霉多糖的生成，其特征在于种子培养条件为：接种量5％，装液量20％，28-30℃、180r/min振荡培养36h；种子培养基为：蔗糖50.0g/L，K₂HPO₄ 5.0g/L，(NH4)₂SO₄ 0.6g/L，酵母膏3.0g/L，NaCl 1.0g/L，MgSO₄·7H₂O 0.2g/L，pH6.5，121℃灭菌30min。

5.根据权利要求(3)中所说的茁霉多糖的生成，其特征在于发酵培养的条件为：接种量15％，装液量30％，28-30℃、200r/min振荡培养140-145h；发酵培养基：蔗糖80.0g/L，K₂HPO₄ 6.0g/L，NH₄NO₃ 0.2g/L，酵母膏0.8g/L，NaCl 1.0g/L，CaCO₃ 0.2g/L，pH6，121℃灭菌30min。

6.根据权利要求(3)中所说的茁霉多糖，其特征在于它是一种新型的高分子材料，可广泛用于食品、医药、轻工、化工和石油领域。