[发明专利]超疏水聚合物制造物有效
| 申请号: | 200810161892.8 | 申请日: | 2008-10-13 |
| 公开(公告)号: | CN101544770A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
| 发明(设计)人: | 李振圭;李惟远;朱国渊 | 申请(专利权)人: | 财团法人首尔大学校产学协力财团 |
| 主分类号: | C08J5/00 | 分类号: | C08J5/00;C23F1/14 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吴亦华;蔡胜有 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 疏水 聚合物 制造 | ||
1.一种超疏水聚合物制造物,其包含形成于所述聚合物制造物表面上 的不规则分布的微米尺寸凸台结构和形成于所述凸台结构内的纳米尺 寸纤维结构。
2.权利要求1的超疏水聚合物制造物,其中所述聚合物为热塑性聚合 物。
3.权利要求2的超疏水聚合物制造物,其中所述热塑性聚合物选自: 聚酯,包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸三亚甲酯(PTT)、 聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);聚烯烃,包 括聚乙烯(PE)和聚丙烯(PP);乙烯基聚合物,包括聚氯乙烯(PVC);聚 酰胺;聚缩醛;聚丙烯酸酯,包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA);聚碳酸 酯;聚苯乙烯;聚氨酯;丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS);卤代聚 烯烃;聚亚芳基醚;以及聚亚芳基硫醚。
4.一种经化学蚀刻的模板,所述模板包含:
形成于所述模板表面上的不规则分布的微米尺寸凸台结构;和
形成于所述凸台结构内的纳米尺寸沟纹结构。
5.权利要求4的模板,其中所述模板由金属制成。
6.权利要求5的模板,其中所述金属选自铝、锡、钛、铁、铜、锌、 镍、钨及其合金。
7.权利要求4的模板,其中形成于所述模板表面上的所述凸台结构和 所述沟纹结构通过蚀刻剂化学蚀刻而成。
8.权利要求7的模板,其中所述蚀刻剂包含选自HNO3、H3PO4、H2SO4、 H2CrO4、HCl、HF、NH4OH、NaOH和KOH的至少一种溶液的混合 物。
9.权利要求4的模板,其中所述凸台结构和所述沟纹结构的形成通过 调节温度或时间来控制。
10.权利要求9的模板,其中所述温度为0℃到100℃。
11.权利要求9的模板,其中所述时间为1秒到10分钟。
12.权利要求4的模板,其中所述模板具有板形或圆筒形。
13.一种制备超疏水聚合物制造物的方法,所述方法包括:
通过化学蚀刻形成在模板表面上的不规则分布的微米尺寸凸台结 构和在所述凸台结构内的纳米尺寸沟纹结构;
向置于所述经蚀刻的模板上的聚合物施加热和压力,以自所述经蚀 刻的模板复制聚合物制造物;和
将所述复制的聚合物制造物从所述模板移开。
14.权利要求13的方法,其中所述微米尺寸凸台结构和对应于所述凸 台结构内的纳米尺寸沟纹结构的纳米尺寸纤维结构形成在所述超疏水 聚合物制造物的表面上。
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