[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上 来曝光基板，该曝光装置包括：

把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；

为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸 区域而向基板上提供液体的液体供给机构；

在多个位置上同时进行基板上的液体回收的液体回收机构，

上述液体回收机构根据液体回收位置以不同的回收力来回收液 体。

2.权利要求1所述的曝光装置，上述基板上的各拍摄区域一边 向规定的扫描方向移动一边被曝光，上述液体回收机构使在上述扫描 方向上与上述投影区域隔开的规定位置上的液体回收力，比和上述规 定位置不同的位置上的液体回收力还大。

3.权利要求1所述的曝光装置，进一步包括被配置在相对上述 投影区域由上述液体回收机构进行的液体回收位置的外侧且形成有捕 捉用上述液体回收机构不能彻底回收的液体的规定长度的液体收集面 的收集部件。

4.权利要求1所述的曝光装置，上述液体供给机构在由上述液 体回收机构进行的液体回收位置和上述投影区域之间进行液体的供 给。

5.权利要求1所述的曝光装置，上述液体供给机构提供对上述 投影光学系统的前端的液体接触面的亲和性比对上述基板表面的亲和 性高的液体。

6.权利要求5所述的曝光装置，上述液体是水，上述投影光学 系统的前端的液体接触面被实施了亲水化处理，在上述基板表面上涂 布有防水性的感光材料。

7.权利要求1所述的曝光装置，上述液体回收机构具有连续或 不连续地形成为包围上述投影区域的回收口。

8.权利要求1所述的曝光装置，还包括被配置为包围上述投影 区域并保持上述液体的亲液性下表面。

9.权利要求8所述的曝光装置，上述亲液性下表面相对于水平 面是倾斜的。

10.权利要求8所述的曝光装置，上述亲液性下表面对于上述液 体的亲液性大于上述基板的表面。

11.权利要求10所述的曝光装置，上述基板的表面对于上述液 体是防水性的。

12.权利要求1所述的曝光装置，在上述液体的回收的同时，上 述液体供给机构向上述基板上供给上述液体。

13.权利要求12所述的曝光装置，上述液体供给机构根据要执 行的动作来改变上述液体的供给量。

14.权利要求13所述的曝光装置，一边移动上述基板一边扫描 曝光上述基板上的各个拍摄区域，上述液体供给机构被操作使得液体 的供给量在上述基板上的2个拍摄区域之间的步进移动期间和各拍摄 区域的曝光期间彼此不同。

15.权利要求1所述的曝光装置，上述液体供给机构具有供给口， 上述液体回收机构具有回收口，上述供给口离开上述基板的表面的距 离与上述回收口离开上述基板的表面的距离不同。

16.一种器件制造方法，使用权利要求1-15中的任一项所述的 曝光装置。