[发明专利]一种制取分子束外延级高纯度金属镓的方法有效
| 申请号: | 200810155686.6 | 申请日: | 2008-10-29 |
| 公开(公告)号: | CN101492777A | 公开(公告)日: | 2009-07-29 |
| 发明(设计)人: | 范家骅;陆森云;张长平;刘文兵;鹿勤俭 | 申请(专利权)人: | 南京金美镓业有限公司 |
| 主分类号: | C22B58/00 | 分类号: | C22B58/00;C22B3/26;C25C3/34 |
| 代理公司: | 江苏致邦律师事务所 | 代理人: | 王 伟 |
| 地址: | 211100江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 制取 分子 外延 纯度 金属 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种制取金属镓的方法,尤其涉及一种制取分子束外延级高纯度金属镓的方法。
背景技术
分子束外延是制造优质化合物、合金、层状结构材料的关键技术,对于微结构化合物半导体的发展起了决定性的作用,推动了微电子科学的发展,并在催生纳电子科学的诞生,显示了强大的力量。
分子束外延需要极高纯度的金属镓作为镓源,镓源的纯度要达到8N的标准,我们称之为分子束外延级金属镓。世界上只有极个别的公司可以提供这种分子束外延级金属镓,已经倒闭的法国GEO公司是公认的分子束外延级金属镓的供应商,其产品纯度,除C、N、O以外,其余可用辉光放电质谱检出的71个杂质元素的含量均在检出极限以下。分子束外延级金属镓的生产工艺需要考虑原料中可能存在的杂质、处理过程中可能引入的污染,采取不同的除去杂质的工艺和防止、减少污染的措施。
发明内容:
本发明的目的在于克服上述不足,提供一种制取分子束外延级高纯度金属镓的方法,纯度达到可用辉光放电质谱检出的杂质元素,包括C、N、O在内,含量均在检出极限以下。
本发明的技术方案如下:一种制取分子束外延级高纯度金属镓的方法,包括以下步骤:将液态镓真空抽虑,除去液态镓内部包络的固体颗粒和表面的氧化膜浮渣;对液态镓进行化学萃取,除去镓中的锌、铜等杂质;电解精炼液态镓,进一步提纯;采用纵向温度梯度凝固法,进一步提纯;精炼的镓表面不用盐酸保护,不用有机试剂处理,以干燥状态保护。
真空抽虑时,液态镓温度为45℃-50℃。
化学萃取的容器底部有孔,压缩气体通过所述孔鼓入萃取容器。
电解镓时,电极引线由固体金属镓制成,固体金属镓引线上设有冷却装置
电解镓时,电解槽上部设有遮盖装置,所述电解槽底部设有指状隔板,将电解槽底部分为相互隔绝的两部分,分别成为电解时的阴极区和阳极区。
电解镓时包括下列步骤:将数个电解槽与恒压电源串联连接;使电解槽中的电解液以稳定的流速循环流动;使循环流动电解液的温度保持在设定的电解温度。
纵向温度梯度凝固法提纯装置包括生长区、放肩区、籽晶区三部分,所述生长区为一段圆柱形管筒,所述放肩区为与所述生长区下端连接的倒锥台形管筒,所述籽晶区为与所述放肩区下端连接的圆柱形盲管。
纵向温度梯度凝固法包括如下步骤:将金属镓籽晶放入所述籽晶区;将35℃到40℃液态金属镓注入所述提纯装置;对所述籽晶区进行冷却,所述籽晶区的冷却温度为0℃-5℃。
本发明与现有技术相比具有的有益效果是:金属镓纯度达到可用辉光放电质谱检出的杂质元素,包括C、N、O在内,含量均在检出极限以下;本发明装置机构简单、方法操作方便、提纯定量控制便捷,适合于大规模生产;大大降低了极高纯度金属镓的生产成本,提高了生产效率,奠定了极高纯度金属镓材料的未来广泛应用的基础。
附图说明:
图1为本发明流程图;
图2为半封闭式指状隔板电解槽结构示意图;
图3为纵向温度梯度凝固法提纯装置结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图和具体实施方式对本发明作详细描述。
实施例1:如图1所示,一种制取分子束外延级高纯度金属镓的方法,包括以下步骤:液态镓过滤,将45℃液态镓真空抽虑,除去液态镓内部包络的固体颗粒和表面的氧化膜浮渣;
液态镓化学萃取,对液态镓进行化学萃取,除去镓中的锌、铜等杂质,萃取装置包括萃取容器,萃取容器底部有孔,压缩气体通过所述孔鼓入所述萃取容器,所述孔设有单向阀片,防止萃取容器内液体流出。压缩气体可以是惰性气体或者是经净化的空气,当压缩气体从萃取容器底部鼓入时,会对处于容器下部的液态镓产生激烈的搅动,使密度较大液态镓与密度较小的水溶液化学试剂充分接触,形成气流扰动萃取效果,大大提高了萃取效率。实验数据表面,将液态镓采用本发明装置萃取3次,可以把液态镓中锌、铜的含量,分别从500-300ppm降低到1ppm以下,提纯效果非常显著;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京金美镓业有限公司,未经南京金美镓业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810155686.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





