[发明专利]用于荧光灯玻璃灯管的清洗或处理方法

说明书

发明领域

本发明涉及用于荧光灯的玻璃灯管的清洗或处理方法，尤其适合用于背景照 明(Hintergrundbeleuchtungen)的荧光灯。

背景技术

众所周知，气体放电灯，例如CCFL(冷阴极荧光灯)气体放电灯或者EEFL(外 置电极荧光灯)气体放电灯使用含碱的硅酸盐玻璃，尤其是硼硅酸盐玻璃。这种玻 璃的主要成分是SiO₂，B₂O₃以及碱金属氧化物和碱土金属氧化物。由于玻璃基质 中B₂O₃的含量相当高，例如高达10-20％，因此这种玻璃在化学上的耐碱性和耐酸 性比较差，而且抗水解性也很弱。

另外，为人所熟知的还有，为了净化玻璃管，在开始真正制造灯之前需要先 对玻璃管进行清洗。该清洗过程的作用在于，一方面为了清除掉例如在运输过程 中沉积在外侧或内侧的杂质或污垢；另一方面是为了除去可能存在的玻璃碎片。 还有利的是，必要时涂覆防划层，完全或者部分地清除掉在运输或仓储过程中可 能出现的划痕。

现有技术中还有大量熟知的清洗方法：

如US 2006/0154838 A1介绍了用一种pH值为8-13的，含有螯合试剂、碱性 化合物和水的清洗组合物清洗有金属接线的半导体衬底的方法。螯合试剂可以清 除掉那些在抛光处理、蚀刻处理和CMP(进行化学机械平面化)处理后所粘附的金 属杂质。因而该衬底具有金属或者含有金属的表面并且首选是硅晶片。

US 2004/0224866 A1介绍了一种半导体衬底清洗液，该清洗液含有氧化剂、 酸和氟化物化合物，通过添加碱性化合物使其pH值范围为3-10，水浓度为80重 量％或更高。也对使用该清洗液时的清洗方法作了介绍，使用该清洗液可以清除 掉粘附在衬底表面的物质。

US 6 039 815 A披露了一种清洗方法，在这种清洗方法中使用的是碱性溶液或 者酸性溶液与臭氧水混合而成的清洗液。

EP 1 808 480 A1介绍了一种清洗组合物，这种清洗组合物尤其是用于在完成 等离子蚀刻和灰化方法(Aschungsverfahren)处理后半导体衬底的光致抗侵剂的清 洗组合物，该清洗剂的组成成分有：水，至少一种氟和一种pH缓冲液体系，该 pH-缓冲体系含有至少一种选自氨基烷基磺酸或者氨基烷基羧酸的有机酸和至少 一种选自胺或者季铵化的烷基氢氧化铵的碱。该组合物基本上不含有机溶剂，其 pH值为5-12。

US 2005/0245422 A1介绍了一种清洗电子部件、金属件和陶瓷件用的碱性清 洗剂，这种清洗剂含有碱成分、多元醇以及含量优选为重量百分比60-95重量％ 的一元醇或二元醇。所述各醇不含有氮原子，且具有特定的分子量。

US 5750 482 A涉及的是一种玻璃清洗组合物，清洗组合物含有乙二醇单己醚 作为有机溶剂以及表面活性剂和水的混合物，可以清除掉玻璃表面上的污垢，而 不留任何条痕。该清洗组合物的pH值被设定在3.5-6.5或7.5-11.5之间。

US 2006/0293199 A1涉及的是一种清洗方法，其中清洗组合物例如含有酸和 盐，其中组合物中水的含量为50重量％或更多，pH值为1-10。

常用的清洗过程有很多缺点：例如，由于玻璃抗化学侵蚀性差，在清洗过程 中玻璃表面与清洗溶液反应，例如浸析(Auslaugung)。这意味着玻璃被溶解，也 就是说玻璃开始溶解或者完全溶解和玻璃中的成分被溶解。在常规条件下，如室 温和中性的pH值，虽然只有部分玻璃被溶解，但这同样会改变玻璃的外形和特 性。此外，还可能会在玻璃的表面发生离子交换，在离子交换过程中，例如，玻 璃中的碱性离子被溶解并与质子(H⁺)进行交换，B₂O₃也可能从玻璃基质中被溶 解出来。