[发明专利]直接耐晒橙GGL无污染制备工艺无效
| 申请号: | 200810154590.8 | 申请日: | 2008-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN101445668A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
| 发明(设计)人: | 张超水 | 申请(专利权)人: | 天津市亚东化工染料厂 |
| 主分类号: | C09B43/00 | 分类号: | C09B43/00 |
| 代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人: | 刘英兰 |
| 地址: | 300273*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 直接 耐晒橙 ggl 无污染 制备 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种直接染料生产工艺,特别涉及一种直接耐晒橙GGL无污染制备工艺。
背景技术
目前,中国是世界上最大的染料生产国家之一,也是纺织品出口大国。目前我国染料行业大部分产品为偶氮染料。然而,偶氯染料及其中间体的生产技术正面临着一场巨大冲击,不得不由目前的“污染环境型”生产工艺转变为“安全清洁型”生产工艺。
传统的染料生产工艺中大部分将还原后的物料进行盐析后过滤得到滤饼,再打浆后干燥。该工序中过滤产生的废液中含有大量的盐、酸、碱等有害物质,严重污染环境,因此必须对废液进行处理后排放,但这需要投入大量的人力、物力、时间。不仅增加了产品成本,也对环境造成了一定程度的污染。如果能通过工艺改进,提高原浆固含量,去除工艺中的过滤与打浆工序。将产生的废水消耗在工艺中,无疑会产生巨大的经济效益和社会效益。
传统工艺需加入大量的氯化钠,将其从溶液中析出,然后再经过滤将色膏与有色含盐废水分离,将膏状物用水打浆再进行喷雾干燥,并加入适量的硫酸钠配成标准品;传统工艺产生了大量的含盐废水约24000升,处理费用相当高。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足之处,提供一种新型节能高效、提高产品质量、利于环保的直接耐晒橙GGL无污染制备工艺。
为实现上述目的本发明所采用的技术方案是:一种直接耐晒橙GGL无污染制备工艺,其特征在于实施步骤包括:
(1)缩合:
在缩合反应釜中先加入23500L~24000L水,再加入纯度为100%的对氨基偶氮苯-4-磺酸1290kg及纯度为100%的4-4’-二硝基二苯乙烯基-2-2’-二磺酸790kg,搅拌打浆30~40分钟,然后分批缓慢加入氢氧化钠调整pH=7.5~8,然后再加入氢氧化钠800Kg,打开蒸汽进气阀门,于1~1.5小时内快速升温至t=100~102℃,用酸度计检测pH=13~13.5,控制该温度持续搅拌作用12~12.5小时;
(2)制备葡萄糖溶液:
在另一个备料罐中放入800~850L水,进行搅拌,加入葡萄糖350kg,并用蒸汽升温至t=70~75℃,待物料全部溶解后停止搅拌备用;
(3)还原:
缩合反应结束后打开循环水阀门,将反应缩合物于1~1.5小时内冷却到t=75~78℃;然后先快后慢加入溶解好的葡萄糖溶液,加料时间控制在1~1.5小时,葡萄糖溶液加完后继续搅拌作用2小时,还原反应终点后,打开循环水阀门降温到t=50℃,再用盐酸回调pH=7~8;
(4)干燥:
还原反应物料直接送至干燥塔喷雾干燥,进口温度设置为t入=105℃,出口温度t出=300℃,制备获得成品。
本发明的有益效果是:改变直接耐晒橙传统生产工艺,去除压滤、打浆工序,简化了工序,节省了设备,缩短了反应周期;采用原浆直接喷雾法,达到工艺废水零排放,制作工艺简单。与传统工艺相比较本发明节约盐析用的氯化钠4500Kg,反应中生成的无机盐存在染料中成为染料使用时的助剂,同时由于工序缩短,避免了物料机械的流失,大大降低了原料成本,收率比传统工艺提高了10~12%。既节约了大量的能源,又减轻了对环境的污染,突出体现全工艺无废水排放和节约能源。大大提高生产合格比率,有效地降低生产成本。
附图说明
图1是传统制备工艺流程图;
图2是本发明制备工艺流程图。
具体实施方式
以下结合附图和较佳实施例,对依据本发明提供的具体实施方式、特征详述如下:
如图2所示,一种直接耐晒橙GGL无污染制备工艺,其特征在于实施步骤包括:
(1)缩合:
在缩合反应釜中先加入23500L~24000L水,再加入纯度为100%的对氨基偶氮苯-4-磺酸1290kg及纯度为100%的4-4’-二硝基二苯乙烯基-2-2’-二磺酸790kg,搅拌打浆30~40分钟,然后分批缓慢加入氢氧化钠调整pH=7.5~8,然后再加入氢氧化钠800Kg,打开蒸汽进气阀门,于1~1.5小时内快速升温至t=100~102℃,用酸度计检测pH=13~13.5,控制该温度持续搅拌作用12~12.5小时;
(2)制备葡萄糖溶液:
在另一个备料罐中放入800~850L水,进行搅拌,加入葡萄糖350kg,并用蒸汽升温至t=70~75℃,待物料全部溶解后停止搅拌备用;
(3)还原:
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