[发明专利]一种柔性有机光电子器件用基板及其制备方法

权利要求书

1.一种柔性光电子器件用基板，包括柔性衬底，其特征在于，所述柔性衬底表面设置有粘结层和导电薄膜，所述导电薄膜沉积在粘结层的表面，所述粘结层材料是需要紫外光固化的胶粘剂，所述胶粘剂原料包括以下组份：

不饱和聚酯树脂或者丙烯酸系树脂          90～99.5％

苯乙烯及其衍生物                        0.2～3％

光引发剂                                0.1～3％

光敏剂和助剂                            0.2～6％

其中光引发剂为包括安息香及其衍生物安息香甲醚、安息香乙醚和安息香异丙醚，光敏剂包括二苯甲酮，助剂包括增塑剂、触变剂和填充剂。

2.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述丙烯酸系树脂包括聚酯-丙烯酸酯、环氧-丙烯酸酯、氨基甲酸酯-丙烯酸酯和聚醚-丙烯酸酯。

3.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述增塑剂包括邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二丁酯、三丁氧基乙烯基磷酸酯、聚乙烯醇缩丁醛、乙酰柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二乙酯、己二酸二(丁氧基乙氧基)乙酯、钛酸异丙酯、钛酸正丁酯、柠檬酸酯、偏苯三酸(2-乙基)己酯、邻苯二甲酸二(2-乙基)己酯、癸二酸二(2-乙基)己酯、一缩二乙二醇二苯甲酸酯、邻苯二甲酸酐、二丙二醇二苯甲酸酯和氯磺化聚乙烯。

4.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述柔性衬底是金属箔和聚合物薄膜中的一种。

5.根据权利要求1所述的柔性光电子器件用基板，其特征在于，所述粘结层是单层结构或者双层结构或者多层结构；双层结构包括：底层采用的胶粘剂，制备于柔性衬底上，顶层采用的胶粘剂，制备于底层胶粘剂上，并且底层胶粘剂浓度与顶层胶粘剂浓度相同或者不同，底层胶粘剂形成的粘结层厚度与顶层胶粘剂形成的粘结层厚度相同或者不同；多层结构是双层结构的M次重复或者是单层结构的N次重复，其中100＞M＞1，200＞N＞1。

6.一种柔性光电子器件用基板的制备方法，包括以下步骤：

①先对柔性衬底进行彻底的清洗，清洗后干燥；

②将柔性衬底表面涂覆粘结层材料，所述粘结层材料是需要紫外光固化的胶粘剂，所述胶粘剂原料包括以下组份：

不饱和聚酯树脂或者丙烯酸系树脂         90～99.5％

苯乙烯及其衍生物                       0.2～3％

光引发剂                               0.1～3％

光敏剂和助剂                           0.2～6％

其中光引发剂为包括安息香及其衍生物安息香甲醚、安息香乙醚和安息香异丙醚，光敏剂包括二苯甲酮，助剂包括增塑剂、触变剂和填充剂；

③再将衬底上制备导电薄膜；

④测试基板的各项本征参数和光电性能；

对于胶粘剂的紫外光固化分别在步骤②和/或步骤④结束时实施。

7.根据权利要求6所述的柔性光电子器件用基板的制备方法，其特征在于，步骤②中，粘结层直接制备于柔性衬底上，或者经过有机溶剂稀释后制备于柔性衬底上；所述粘结层和导电薄膜是通过真空蒸镀、离子团束沉积、离子镀、直流溅射镀膜、RF溅射镀膜、离子束溅射镀膜、离子束辅助沉积、等离子增强化学气相沉积、高密度电感耦合式等离子体源化学气相沉积、触媒式化学气相沉积、磁控溅射、电镀、旋涂、浸涂、喷墨打印、辊涂、LB膜中的一种或者几种方式而形成。