[发明专利]一种角振动硅微陀螺及其制作方法

权利要求书

1.一种角振动硅微陀螺，其特征在于：它包括通过键合连接的第一基板(1)和第二基板(13)，所述第二基板(13)上中心处设有呈“十“字形的主悬挂梁(8)，主悬挂梁(8)的两侧分别通过“T”形梁组件与质量块(11)相连，每个“T”形梁组件的两端分别对称布置有一个质量块(11)；所述第一基板(1)上开设有凹槽(2)，凹槽(2)内与每个质量块(11)对应的位置处设有一组电极组件，所述“T”形梁组件包括倾斜悬臂梁(9)和两根梯形梁(10)，所述倾斜悬臂梁(9)的一端与主悬挂梁(8)相连，倾斜悬臂梁(9)的另一端与呈对称布置的两根梯形梁(10)相连，所述电极组件包括呈“品”字形布置的两个驱动电极(3)和一个检测电极(4)以及驱动电极引线(5)、检测电极引线(6)，所述质量块(11)为“凸”字形。

2.根据权利要求1所述的角振动硅微陀螺，其特征在于：所述倾斜悬臂梁(9)的截面为平行四边形，其底边与斜边的夹角为54.6°；所述梯形梁(10)的截面为梯形，其底边与斜边的夹角为54.6°。

3.根据权利要求1或2所述的角振动硅微陀螺，其特征在于：所述质量块(11)上开设有若干个阻尼孔(12)。

4.根据权利要求1所述角振动硅微陀螺的制作方法，其特征在于步骤为：

(a)、选用键合玻璃基板或硅片作为第一基板(1)，于第一基板(1)的表面生成一层二氧化硅绝缘层，利用湿法腐蚀工艺或者干法刻蚀工艺在第一基板(1)的中间制作一个凹槽(2)；

(b)、利用蒸镀或者溅射的工艺方法，在凹槽(2)的底面形成铝材料的驱动电极(3)、检测电极(4)、驱动电极引线(5)、检测电极引线(6)；

(c)、选用晶向双面抛光的硅片作为第二基板(13)，在硅片表面生成各向异性湿法腐蚀掩膜层，该掩模层是二氧化硅薄膜或二氧化硅和氮化硅复合薄膜；

(d)、利用双面对准光刻工艺对第二基板(13)进行双面对准光刻，刻蚀掩膜层后在第二基板(13)两面制作出掩模图形；

(e)、在碱性溶液中对第二基板(13)进行各向异性湿法腐蚀，待硅片腐蚀穿透后，去除硅片表面的掩膜层，制作出主悬挂梁(8)、倾斜悬臂梁(9)、梯形梁(10)以及质量块(11)；

(f)、将第一基板(1)的上表面和第二基板(13)的下表面对准后键合在一起，完成微陀螺的制作工艺。