[发明专利]取放晶粒的装置及方法

权利要求书

1.一种取放晶粒的装置，包括一摆臂和一位移控制装置，其特征在于： 所述摆臂前端设有一吸头；

所述位移控制装置连接所述摆臂的末端，以控制所述摆臂的垂直移 动；

取放晶粒时，所述位移控制装置对所述摆臂采取两阶段的移动控制： 第一阶段，使所述吸头首先以较快的速度下降至一预定位置，第二阶段， 所述位移控制装置开始提供向上的力给摆臂，以减轻所述晶粒遭受的力；

所述位移控制装置在所述吸头下降至所述晶粒后，或所述位移控制装 置在所述吸头将所述晶粒放置到一预定位置后提供一下压力给所述摆臂， 以稳定所述晶粒；

所述位移控制装置利用音圈马达提供所述向上的力和所述下压力；

所述音圈马达工作产生的作用力为：F＝I×B×L，其中，I是音圈马 达的工作电流，B是磁场，L是力矩。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述向上的力在所述吸头 下降至所述晶粒上的过程中是固定的或变动的。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，更包括一距离传感器，所 述距离传感器感测所述吸头下降的距离，以供判断所述吸头是否下降到所 述晶粒。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，更包括一计数器，所述计 数器计算所述摆臂下降时间，以供判断所述吸头是否下降到所述晶粒。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述向上的力在所述吸头 将所述晶粒放置到一预定位置的过程中是固定的或变动的。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，更包括一距离传感器，感 测所述吸头下降的距离，以供判断所述晶粒是否下降到一预定位置。

7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，更包括一计数器，所述计 数器计算所述摆臂下降的时间，以供判断所述晶粒是否下降到一预定位 置。

8.一种取放晶粒的方法，其特征在于包括下列步骤：

第一步骤：控制一摆臂的垂直移动；

第二步骤：使所述摆臂的吸头以较快的速度下降至一预定位置；

第三步骤：在所述摆臂继续下降时，提供一向上的力给所述摆臂，以 减轻所述晶粒遭受的力；

第四步骤：在所述吸头下降至所述晶粒后或在所述吸头将所述晶粒放 置到一预定位置后提供一下压力，以稳定所述晶粒；

所述向上的力和所述下压力由音圈马达提供，所述音圈马达工作产生 的作用力为：F＝I×B×L，其中，I是音圈马达的工作电流，B是磁场，L 是力矩。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述提供一向上的力给所 述摆臂，以减轻所述晶粒遭受的力的步骤中包括下降所述摆臂，使所述吸 头下压所述晶粒。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述向上的力在所述吸头 与所述晶粒相距一预定距离内是固定的或变动的。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，更包括感测所述吸头下降 的距离，以判断所述吸头是否下降到所述晶粒。

12.如权利要求9所述的方法，其特征在于，更包括计算所述摆臂下降 的时间，以判断所述吸头是否下降到所述晶粒。

13.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述向上的力在所述晶粒 与所述预定位置相距一预定距离内是固定的或变动的。

14.如权利要求8所述的方法，其特征在于，更包括感测所述吸头下降 的距离，以供判断所述晶粒是否下降至所述预定位置。

15.如权利要求8所述的方法，其特征在于，更包括计算所述摆臂下降 的时间，以供判断所述晶粒是否下降到所述预定位置。