[发明专利]一种具有酒精气体敏感效应的碳薄膜/硅异质结材料及其制备方法

权利要求书

1.一种具有酒精气体敏感效应的碳薄膜/硅异质结材料，其特征是：在一块0.5～1.0毫米厚的抛光单晶硅基片上，溅射一层类金刚石碳薄膜，薄膜的厚度为20～200纳米。

2.依据权利要求1所述的具有酒精气体敏感效应的碳薄膜/硅异质结材料，其特征是：所说的类金刚石碳薄膜中可以含有质量含量为0～10％的铁，制成掺杂碳薄膜/硅异质结材料。

3.一种具有酒精气体敏感效应的碳薄膜/硅异质结材料的制备方法，包括以下步骤：

(1)取纯度为99.9％的石墨粉，或者取纯度均为99.9％的石墨粉和铁粉，通过冷压的方法，制成含铁0～10％(质量分数)的石墨复合靶；

(2)先用摩尔浓度为20％的氢氟酸溶液浸泡实验所需的厚度为0.5～1.0毫米的硅基片5分钟，然后依次用去离子水、乙醇、丙酮、乙醇在超声波中各清洗硅基片5分钟；

(3)将清洗好的硅基片放入溅射室，开启抽真空系统进行抽真空；

(4)当背景真空为2×10^-4帕时，通入氩气，并维持2帕的压强，待气压稳定后，开始用石墨靶溅射，或者用掺铁的石墨复合靶溅射，溅射功率为50瓦，溅射直流电压为0.50千伏，溅射时间为5～50分钟，溅射温度为室温至400℃；

(5)溅射完毕后，停止通氩气，抽真空系统继续工作，使样品在真空度较高的环境下自然冷却，待样品温度降至室温，取出样品即可。