[发明专利]自组装光子晶体的方法

权利要求书

1.自组装光子晶体的方法，其特征在于自组装光子晶体的方法如下：一、基板的表面处理：将经过去离子水超声清洗10min-30min的基板用丙酮超声清洗10min-30min，然后用氮气吹至表面干燥或者在20℃-60℃的干燥箱中烘至干燥，再用氧等离子处理1min-10min；二、胶体溶液的配置：将球径为50nm-5μm的聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅或二氧化钛小球加入到溶剂中得到单分散性小于等于5％、质量分数为0.005％-5％的溶液，然后将所得的溶液超声震荡10min-30min，得到胶体溶液；三、将基板放入经过去离子水清洗10-30min、丙酮超声清洗10-30min、去离子水冲洗并干燥后的容器中，然后加入步骤二配置的胶体溶液，然后在温度为20℃-70℃的恒温条件下使胶体溶液挥发，待无物质挥发取出基板，即得到光子晶体；其中步骤一中所述的基板是厚度为0.01mm-1mm且表面镀有铝、银、金或氧化铟锡的聚酯基板、聚酰亚胺基板、聚砜基板、聚碳酸酯基板、聚乙烯基板、聚氯乙烯基板、聚氨酯基板、有机硅基板或橡胶基板；步骤一中将所述的基板卷曲成空心圆柱形、空心圆台形或螺旋形；步骤二中所述的溶剂是去离子水、乙醇、甲醇、乙二醇中的一种或几种的混合溶液。

2.根据权利要求1所述的自组装光子晶体的方法，其特征在于步骤三中所述的温度为35℃-65℃。

3.自组装光子晶体的方法，其特征在于自组装光子晶体的方法如下：一、有机基板的表面处理：将有机基板放入质量分数5％-30％的酸性溶液中浸泡1min-30min，然后再用去离子水超声清洗10min-30min、干燥；二、胶体溶液的配置：将球径为50nm-5μm的聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅或二氧化钛小球加入到溶剂中得到单分散性小于等于5％、质量分数为0.005％-5％的溶液，然后将所得的溶液超声震荡10min-30min，得到胶体溶液；三、将有机基板放入经过去离子水清洗10-30min、丙酮超声清洗10-30min、去离子水冲洗并干燥后的容器中，然后加入步骤二配置的胶体溶液，然后在温度为20℃-70℃的恒温条件下使胶体溶液挥发，待无物质挥发取出基板，即得到光子晶体；其中步骤一中所述的有机基板是厚度为0.01mm-1mm的聚酯基板、聚酰亚胺基板、聚砜基板、聚碳酸酯基板、聚乙烯基板、聚氯乙烯基板、聚氨酯基板、有机硅基板或橡胶基板；步骤一中所述的酸性溶液是重铬酸钾溶液；步骤一中将所述的有机基板卷曲成空心圆柱形、空心圆台形或螺旋形；步骤二中所述的溶剂是去离子水、乙醇、甲醇、乙二醇中的一种或几种的混合溶液。

4.根据权利要求3所述的自组装光子晶体的方法，其特征在于步骤三中所述的温度为35℃-65℃。

5.自组装光子晶体的方法，其特征在于自组装光子晶体的方法如下：一、有机基板的表面处理：将经过去离子水超声清洗10min-30min的基板用丙酮超声清洗10min-30min，然后用氮气吹至表面干燥或者在20℃-60℃的干燥箱中烘至干燥，再用氧等离子处理1min-10min；二、胶体溶液的配置：将球径为50nm-5μm的聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅或二氧化钛小球加入到溶剂中得到单分散性小于等于5％、质量分数为0.005％-5％的溶液，然后将所得的溶液超声震荡10min-30min，得到胶体溶液；三、将有机基板放入经过去离子水清洗10-30min、丙酮超声清洗10-30min、去离子水冲洗并干燥后的容器中，然后加入步骤二配置的胶体溶液，然后在温度为20℃-70℃的恒温条件下使胶体溶液挥发，待无物质挥发取出基板，即得到光子晶体；其中步骤一中所述的有机基板是厚度为0.01mm-1mm的聚酯基板、聚酰亚胺基板、聚砜基板、聚碳酸酯基板、聚乙烯基板、聚氯乙烯基板、聚氨酯基板、有机硅基板或橡胶基板；步骤一中将所述的有机基板卷曲成空心圆柱形、空心圆台形或螺旋形；步骤二中所述的溶剂是去离子水、乙醇、甲醇、乙二醇中的一种或几种的混合溶液。

6.根据权利要求5所述的自组装光子晶体的方法，其特征在于步骤三中所述的温度为35℃-65℃。

7.根据权利要求5所述的自组装光子晶体的方法，其特征在于步骤三中所述的温度为50℃。