[发明专利]用于散射仪的反射折射式光学系统有效
| 申请号: | 200810133692.1 | 申请日: | 2008-07-18 |
| 公开(公告)号: | CN101349804A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
| 发明(设计)人: | Y·K·什马利威;斯坦尼斯拉·Y·斯摩诺伍;伊瑞娜·I·波兹恩斯卡亚 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 散射 反射 折射 光学系统 | ||
1.一种用于散射仪的反射折射式光学系统,所述反射折射式光学系 统包括:
修正板,所述修正板用于调节电磁辐射、以修正至少一种像差;
第一反射表面,所述第一反射表面被定位以反射被调节的电磁辐射 的第一部分和折射被调节的电磁辐射的第二部分;和
第二反射表面,所述第二反射表面被定位以将被调节的电磁辐射的 被反射的第一部分聚焦到衬底的目标部分上,
其中,被调节的电磁辐射的第一部分不被光学元件所折射使得所述 反射折射式光学系统能够在宽的光谱范围中是消色差的,因此允许所述反 射折射式光学系统能够在宽的光谱范围内工作。
2.根据权利要求1所述的反射折射式光学系统,其中第一反射表面 包括凸反射表面。
3.根据权利要求1所述的反射折射式光学系统,其中第二反射表面 是单片型玻璃元件的表面。
4.根据权利要求3所述的反射折射式光学系统,其中第一反射表面 位于单片型玻璃元件的第二表面上,所述第二表面不同于第二反射表面所 在的表面。
5.根据权利要求1所述的反射折射式光学系统,其中第一反射表面 位于第二反射表面和衬底之间。
6.根据权利要求5所述的反射折射式光学系统,其中第一反射表面 位于机械支撑件上。
7.根据权利要求5所述的反射折射式光学系统,其中第一反射表面 位于凹凸透镜上。
8.根据权利要求5所述的反射折射式光学系统,其中第二反射表面 位于修正板和第一反射表面之间,且第二反射表面包括孔,由修正板所调 节的电磁辐射通过所述孔。
9.根据权利要求1所述的反射折射式光学系统,其中第二反射表面 包括凹非球面反射表面。
10.根据权利要求1所述的反射折射式光学系统,其中反射折射式光 学系统被包括在散射仪的感测支路和对准支路两者中。
11.一种用于散射仪的反射折射式光学系统,包括:
光学元件,所述光学元件使电磁辐射偏转;
折射元件,所述折射元件调节电磁辐射以修正所述光学系统中的彗 差;
物镜系统,所述物镜系统包括单片型玻璃元件,所述单片型玻璃元 件与所述光学元件进行光学接触,并配置用于接收被偏转的电磁辐射,所 述单片型玻璃元件包括:
第一表面,所述第一表面定位成反射被调节的电磁辐射的第一 部分和折射被调节的电磁辐射的第二部分,
第二表面,所述第二表面接收来自所述第一表面的被调节的电 磁辐射的被反射的第一部分,并将所述电磁辐射的被反射的第一部分朝向 衬底的目标部分反射和聚焦,以及
第三表面,其中由所述第二表面反射和聚焦的被调节的电磁辐 射的第一部分大致垂直于所述第三表面从所述单片型玻璃元件射出,并且 因此由所述第二表面反射和聚焦的被调节的电磁辐射的第一部分没有被 所述第三表面折射,使得所述光学系统能够在宽的光谱范围中是消色差 的,
其中所述光学元件和单片型玻璃元件由相同类型的材料制成。
12.根据权利要求11所述的反射折射式光学系统,其中所述光学元 件包括:
倾斜表面,所述倾斜表面反射电磁辐射,所述倾斜表面其中有孔; 以及
非球面表面,所述非球面表面反射由所述倾斜表面反射的电磁辐射, 因此使得所述电磁辐射通过所述倾斜表面中的孔,并照射到单片型玻璃元 件的第一表面上。
13.根据权利要求11所述的反射折射式光学系统,其中所述第一表 面包括平坦的环形物,并且所述第三表面位于环形物的中心。
14.根据权利要求11所述的反射折射式光学系统,其中所述光学元 件和单片型玻璃元件包括熔融石英(SiO2)。
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