[发明专利]透明导电氧化物绒面的制备方法

权利要求书

1、一种透明导电氧化物绒面的制备方法，包括：对生成有透明导电氧化物薄膜的基片进行干法刻蚀，以在所述透明导电氧化物薄膜上形成绒面。

2、根据权利要求1所述的制备方法，其中所述对生成有透明导电氧化物薄膜的基片进行干法刻蚀的操作具体为：通过含卤素的气体和含氢元素的气体中一种气体或两种以上的混合气体产生的等离子体对生成有透明导电氧化物薄膜的基片进行干法刻蚀。

3、根据权利要求1所述的制备方法，其中所述基片为已被刻蚀的平面玻璃、未被刻蚀的绒面玻璃或已被刻蚀的绒面玻璃。

4、根据权利要求3所述的制备方法，其中所述平面玻璃或绒面玻璃的刻蚀操作具体为：

通过至少一种氟化物气体等离子体对所述平面玻璃或绒面玻璃进行干法刻蚀。

5、根据权利要求1所述的制备方法，其中在干法刻蚀过程中，还通过高能量的惰性气体离子对透明导电氧化物薄膜进行轰击。

6、根据权利要求1所述的制备方法，其中在干法刻蚀过程中，产生具有刻蚀活性的等离子体的方式包括：

利用直流、中频、射频、微波、直流+脉冲或直流+射频方式在反应腔内使气体分子离化，产生等离子体；或者

利用远程激发方式在反应腔外使气体分子离化，产生等离子体，然后通过管道通入反应腔。

7、一种透明导电氧化物绒面的制备方法，包括：在已进行干法刻蚀后的基片上生长透明导电氧化物薄膜。

8、根据权利要求7所述的制备方法，其中所述基片为平面玻璃或者绒面玻璃。

9、根据权利要求根据权利要求8所述的制备方法，其中对所述平面玻璃或者绒面玻璃进行干法刻蚀的操作具体为：

通过至少一种氟化物气体等离子体对所述平面玻璃或绒面玻璃进行干法刻蚀。

10、根据权利要求7所述的制备方法，其中在干法刻蚀过程中，产生活性刻蚀离子的等离子体的方式包括：

利用直流、中频、射频、微波、直流+脉冲或直流+射频方式在反应腔内使气体分子离化，产生等离子体；或者

利用远程激发方式在反应腔外使气体分子离化，产生等离子体，然后通过管道通入反应腔。