[发明专利]Ⅲ族氮化物基化合物半导体发光器件无效
申请号: | 200810132092.3 | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN101355129A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 斋藤义树;矢岛孝义;牛田泰久 | 申请(专利权)人: | 丰田合成株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 蔡胜有;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化物 化合物 半导体 发光 器件 | ||
1.一种III族氮化物基化合物半导体发光器件,包括:
极性反转层,其包括具有凸部的表面;和
形成在所述极性反转层上的透明电极。
2.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述极性反转层具有不小于1×1020原子/cm3的镁浓度。
3.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述极性反转层具有不小于2×1020原子/cm3且不大于5×1021原子 /cm3的镁浓度。
4.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述极性反转层包括镁掺杂的AlxGa1-xN(0≤x<1)。
5.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述具有凸部的表面通过使用磷酸、氢氧化钾和四甲基氢氧化铵其中 之一的湿蚀刻而形成。
6.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述表面包括约1×107/cm2至约1×1010/cm2的凸部。
7.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述表面包括约1×108/cm2至约1×109/cm2的凸部。
8.根据权利要求1所述的发光器件,其中:
所述表面包括在Ga极性区的凸部和在N极性区的凹部。
9.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:
发光层;和
用于提取从所述发光层发出的光的光提取表面,
其中,相对于发光层,所述极性反转层形成得更接近于所述光提取表 面。
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