[发明专利]静电执行机构及其制造方法、液滴喷吐头及其制造方法无效
| 申请号： | 200810130546.3 | 申请日： | 2008-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN101337461A | 公开（公告）日： | 2009-01-07 |
| 发明（设计）人： | 山崎成二 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16;B41J2/045 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 尚志峰;麻吉凤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 静电 执行机构 及其 制造 方法 喷吐 | ||
【权利要求书】：
1.一种静电执行机构，其特征在于，包括：
振动膜；以及
对置电极，所述对置电极与所述振动膜隔开间隙，且与所述振动膜对置，
所述振动膜呈从所述振动膜的中央部向外周部阶段式变厚的多阶形状。
2.根据权利要求1所述的静电执行机构，其特征在于，
在所述振动膜和支撑所述振动膜的部分之间的连接部上形成有斜面。
3.根据权利要求1或2所述的静电执行机构，其特征在于，
所述振动膜由掺杂了硼的硅基板构成。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的静电执行机构，其特征在于，
形成有所述对置电极的电极基板由硼硅酸玻璃构成。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的静电执行机构，其特征在于，
所述对置电极由ITO构成。
6.一种液滴喷吐头，其特征在于，
包括权利要求1至5中任一项所述的静电执行机构，
其中，所述振动膜构成喷吐液滴的喷吐室的底壁。
7.一种静电执行机构的制造方法，其特征在于，包括：
对硅基板反复进行选择性地扩散硼的处理，形成硼掺杂层的工序；以及
对形成有所述硼掺杂层的硅基板进行湿式蚀刻，通过所述硼掺杂层使蚀刻停止，从而形成振动膜的工序。
8.根据权利要求7所述的静电执行机构的制造方法，其特征在于，
使用不同浓度的氢氧化钾水溶液来进行所述湿式蚀刻。
9.一种液滴喷吐头的制造方法，其特征在于，
使用权利要求7或8中所述的静电执行机构的制造方法形成液滴喷吐头的执行机构部分。
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