[发明专利]探测器阵列和系统无效

专利信息
申请号: 200810130209.4 申请日: 2008-06-16
公开(公告)号: CN101357066A 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: A·伊赫列夫;F·赛义德 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;G01T1/20;H05G1/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;陈景峻
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 探测器 阵列 系统
【权利要求书】:

1.一种计算断层摄影探测器系统(100),包括:

光电二极管阵列(110,210,650,750,950),其由多个棋盘 状芯片(550,650,750,950)形成,每一个芯片都具有形成在其上 的多个光电二极管(365,654,754,954);

闪烁体阵列(109,630,730,830),其包括多个闪烁单元(632, 732,832),所述闪烁单元被隔片(634,734,834)隔开,所述多 个闪烁单元(632,732,832)中的每一个都与多个光电二极管(365, 654,754,954)中相应的一个相关联,从而形成探测器元件(215, 615,715);以及

光学掩模(562,662,762,862,962),填隙式地夹在多个光 电二极管(365,654,754,954)和多个闪烁单元(632,732,832) 之间,该光学掩模在空间上有差别地改变从所述多个闪烁单元(632, 732,832)中的每一个向所述多个光电二极管(365,654,754,954) 中相应的相关联的一个的光(370,670)的透射,其中所述光学掩模 (562,662,762,862,962)向位于所述芯片(550,650,750,950) 每一个的边界处的探测器元件(215,615,715)和位于所述芯片(550, 650,750,950)中心部分处的探测器元件(215,615,715)提供不 同的光透射改变。

2.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中所述 光学掩模(562,662,762,862,962)对位于芯片(550,650,750, 950)中心区域的相邻探测器元件(215,615,715)间的串扰以及芯 片(550,650,750,950)到芯片(550,650,750,950)间的串扰 进行选择性地空间调制。

3.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中所 述光学掩模(562,662,762,862,962)向位于所述芯片(550,650, 750,950)每一个的边界处的探测器元件提供的光透射改变小于向位 于所述芯片(550,650,750,950)中心部分的探测器元件(215, 615,715)提供的光透射改变。

4.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中所 述光学掩模(562,662,762,862,962)被施加到所述棋盘状芯片 (550,650,750,950)。

5.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中, 所述光学掩模(562,662,762,862,962)被施加到所述闪烁体阵 列(109,630,730,830)。

6.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中, 所述光学掩模(562,662,762,862,962)包括:

第一光学掩模(562,662,762,862,962),其被施加到所述 棋盘状芯片(550,650,750,950);

第二光学掩模(562,662,762,862,962),其被施加到所述 闪烁体阵列(109,630,730,830)。

7.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中, 所述光学掩模(562,662,762,862,962)包括光吸收材料或光反 射材料。

8.根据权利要求1的计算断层摄影探测器系统(100),其中, 光学掩模沿着一个轴相比沿着另一个轴有差别地调制串扰效应。

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