[发明专利]线路板制造工艺有效
申请号: | 200810129056.1 | 申请日: | 2008-06-20 |
公开(公告)号: | CN101299413A | 公开(公告)日: | 2008-11-05 |
发明(设计)人: | 王建皓 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H05K3/46 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 台湾省高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线路板 制造 工艺 | ||
1.一种线路板制造方法,包括:
提供第一基板,该第一基板具有基层、第一金属层、第二金属层以及贯通该基层并电性连接该第一金属层以及该第二金属层的至少一第一导通结构,该第一金属层位于该基层的第一表面,而该第二金属层位于该基层的一第二表面;
图案化该第一金属层,以形成具有多个第一接垫的第一线路层;
形成第一焊罩层于该第一线路层上以及该第一导通结构中,并显露出所述第一接垫的接合面;
对所述第一接垫的接合面进行粗化处理,以形成粗化层;
提供第二基板、至少一绝缘层以及第三金属层,该第二基板与该绝缘层具有共同开口,而该第三金属层覆盖于该共同开口之上;
该第二基板以该绝缘层压合于该基层的该第一表面上,而该第一焊罩层以及所述第一接垫位于该共同开口中;
形成贯穿该第一基板与该第二基板并电性连接该第二金属层以及该第三金属层的至少一第二导通结构;
于该第二金属层上电镀而形成具有多个第二接垫的第二线路层;以及
于该第三金属层上电镀而形成具有多个第三接垫的第三线路层。
2.如权利要求1所述的线路板制造方法,更包括移除该第三金属层位于该共同开口上方的覆盖区域。
3.如权利要求1所述的线路板制造方法,更包括形成第二焊罩层于该第二线路层上、该第二导通结构中以及该第三线路层上,并显露所述第二接垫与所述第三接垫。
4.如权利要求1所述的线路板制造方法,更包括:
形成第一保护层于所述第一接垫的接合面上;
形成第二保护层于所述第二接垫的接合面上;以及
形成第三保护层于所述第三接垫的接合面上。
5.如权利要求1所述的线路板制造方法,其中该绝缘层为半固化树脂片。
6.如权利要求4所述的线路板制造方法,其中该保护层的材质包括镍金。
7.如权利要求1所述的线路板制造方法,其中该粗化处理包括进行黑氧化反应而形成该粗化层,该粗化层为黑氧化层。
8.如权利要求1所述的线路板制造方法,其中该粗化处理包括进行棕化反应而形成该粗化层,该粗化层为棕化层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造