[发明专利]用于透射图像感应的装置和方法有效

专利信息
申请号: 200810128570.3 申请日: 2008-06-27
公开(公告)号: CN101344731A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 拜尔拉克·摩艾斯特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 透射 图像 感应 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于透射图像感应的装置(TIS,TIS1,TIS2),所述装置用于感应光刻曝光设备中的空间图像,所述装置包括:

投影系统(PS,1),所述投影系统设置用于在投影系统的图像侧形成物体标记(M1,M2,G0)的空间图像,所述图像侧具有大于1的数值孔径;以及

检测器,所述检测器包括狭缝图案(G1),所述狭缝图案具有设置成与空间图像的至少一部分相对应的特征(D),所述狭缝图案设置成暴露给空间图像,所述检测器还被设置成检测从狭缝图案透射的检测辐射(PB);

其中d<0.85·λNA,]]>其中

d表示所述狭缝图案的最小特征的尺寸,

λ表示检测辐射的波长,以及

NA表示图像侧的数值孔径。

2.根据权利要求1所述的装置,其中波长λ是介于150nm和200nm之间的波长。

3.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述狭缝图案(G1)包括选自包括单个狭缝图案、分隔开的线图案和衍射光栅的图案组中的图案。

4.根据权利要求1或2所述的装置,其中物体标记(M1,M2,G0)包括选自包括单个狭缝图案、分隔开的线图案和衍射光栅的图案组中的图案。

5.根据权利要求1或2所述的装置,其中投影系统(PS)设置成将图案化的曝光辐射束(B)投影到衬底(W)上以曝光所述衬底。

6.根据权利要求1所述的装置,还包括支撑结构(MT),所述支撑结构(MT)设置用于支撑用于图案化所述曝光辐射的图案形成装置(MA),其中物体标记设置在所述支撑结构或者图案形成装置上。

7.一种用于空间图像的透射图像感应方法,包括步骤:

提供检测辐射(PB);

使用投影系统(PS)和检测辐射,在所述投影系统的图像侧形成物体标记(M1,M2,G0)的空间图像,所述图像侧具有大于1的数值孔径;

将狭缝图案(G1)暴露给所述图像,所述狭缝图案具有与空间图像的至少一部分相对应的特征(D);

检测从所述狭缝图案透射的检测辐射;

其中d<0.85·λNA,]]>其中

d表示在所述空间图像中的任一特征的最小尺寸,

λ表示所述检测辐射的波长,以及

NA表示所述图像侧的数值孔径。

8.根据权利要求7所述的方法,其中提供检测辐射(PB)的步骤包括:提供波长介于150nm和200nm之间的检测辐射。

9.根据权利要求7或8所述的方法,还包括步骤:

提供具有选自包括单个狭缝图案、分离开的线图案和衍射光栅的图案组中的图案的所述狭缝图案(G1)。

10.根据权利要求7或8所述的方法,其中所述物体标记(M1,M2,G0)包括选自包括单个狭缝图案、分隔开的线形图案和衍射光栅的图案组中的图案。

11.根据权利要求7或8所述的方法,还包括步骤:

使用投影系统(PS)将图案化的曝光辐射束(B)投影到衬底(W)上以曝光所述衬底。

12.根据权利要求7所述的方法,还包括步骤:

用支撑在支撑结构上的图案形成装置对曝光辐射进行图案化,并且在所述支撑结构或图案形成装置上设置物体标记。

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