[发明专利]表面反射编码器标尺和使用该标尺的表面反射编码器有效

专利信息
申请号: 200810128533.2 申请日: 2008-06-19
公开(公告)号: CN101329186A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 前田不二雄 申请(专利权)人: 三丰株式会社
主分类号: G01D5/38 分类号: G01D5/38;G02B5/18
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 彭久云
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 表面 反射 编码器 标尺 使用
【权利要求书】:

1.一种表面反射编码器标尺,用于表面反射编码器,所述表面反射编码器用于检测进行相对移动的构件的相对位移量,所述表面反射编码器标尺包括:

所述构件的基板或者设置在所述构件上的基板;以及

设置在所述基板上的反射相栅,该反射相栅的表面上具有用于改变反射衍射光的相位的凹凸,

其中所述相栅的凹凸由沉积的金属硅化物膜和铬膜形成。

2.如权利要求1所述的表面反射编码器标尺,其中所述金属硅化物是硅化钛。

3.如权利要求2所述的表面反射编码器标尺,其中所述铬膜设置在所述基板上以使所述相栅的每个凹入部分由所述铬膜形成,而且

其中具有预定间距的所述金属氧化物膜设置在所述铬膜上以使所述相栅的凸出部分由所述金属硅化物膜形成。

4.如权利要求3所述的表面反射编码器标尺,其中所述相栅的整个表面由金的薄膜均匀涂覆。

5.一种表面反射编码器,包括:

如权利要求4所述的表面反射编码器标尺;以及

检测机构,所述检测机构允许相干光入射到所述相栅上,产生反射衍射光,使用光的干涉来检测所述相栅中的所述反射衍射光随所述构件的相对移动变化的相位变化,并提供所述构件的相对位移量。

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