[发明专利]用于图案化介质的具有增大的写入场的磁写入器

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录系统。更具体地，本发明涉及用于对图案化介质(patterned media)进行写入的具有增大的写入场的磁写入器。

背景技术

随着面密度增加，在磁介质中需要更小的比特单元(磁道宽度和比特长度)。然而，随着记录介质的颗粒体积(即，每比特单元的介质中的颗粒数)减小，以便控制高面密度记录的介质噪声，超顺磁不稳定性变成一个问题。超顺磁效应在颗粒体积V足够小以至于不再满足不等式K_uV/k_BT＞70时最明显。K_u是材料的磁性晶体各向异性能量密度，k_B是玻尔兹曼常数，T是绝对温度。当不满足该不等式时，热能使所存储的比特退磁。因此，随着颗粒大小减小以便增加面密度，达到了给定材料K_u和温度T的阈值，使得稳定的数据存储不再可行。

已经提出了一种比特图案化磁介质(BPM)作为防止超顺磁效应引起磁化反转的手段。图案化介质可包括磁性材料的多个分立、独立区，它们形成分立、独立磁性元件，在介质中起记录比特的作用。磁性比特或元件以规则的图案排列在介质衬底上。每一个比特或元件具有小尺寸和磁各向异性，使得在没有施加磁场的情况下，每一个磁性比特或元件的磁矩沿同一易磁化轴排列。

为了在非常高的面密度下写入，写入磁极的大小可被减小，以增加磁道密度。然而，可由写入器实现的写入场强随着写入磁极宽度的减小而降低。写入场甚至被常规的侧面屏蔽组件进一步降低。此外，随着写入磁极越过介质径向移动，来自写入磁极尖端的磁场分布相对于磁介质中的磁性比特或元件变斜。这可导致写入差错和先前记录的数据的无意擦除。尽管由于倾斜引起的对写入过程的效应可通过增加写入磁极的长度来减轻一些，但磁头-介质间隔(HMS)和介质厚度不能按比例缩小至与写入磁极宽度相同的程度，来进一步矫正倾斜效应。

发明内容

本发明涉及用于向包括多个磁道的磁介质进行写入的磁写入器。每一个磁道包括用于信息存储的多个隔离的磁性元件。该磁写入器包括写入元件，其包括具有前缘、后缘以及在前缘和后缘之间延伸的侧缘的写入元件尖端。写入元件具有从前缘延伸到后缘的写入元件长度。第一屏蔽仅紧邻第一侧缘或第二侧缘之一。

在另一个方面中，磁记录系统包括写入元件，该写入元件包括具有前缘和后缘的写入元件尖端。后缘的宽度大于磁介质上隔离的磁性元件的宽度，且写入元件的至少一个表面没有对称线。

在又一个方面中，磁介质包括多个磁道，每个磁道包括用于信息存储的多个隔离的磁性元件。写入元件包括写入元件尖端，具有由前缘、后缘以及将前缘连接至后缘的第一和第二侧缘限定的介质相对表面的。后缘的宽度大于磁介质上隔离的磁性元件的宽度，且写入元件的至少一个表面没有对称线。第一屏蔽仅紧邻写入元件尖端的第一侧缘或第二侧缘之一。

以上本发明内容不旨在描述每一个公开的实施例或本发明的每一个实现。以下的附图和详细描述更具体地举例说明说明性实施例。

附图简述

图1是磁记录系统的立体图。

图2是包括用于对图案化介质进行写入的写入元件的转换头的横截面图。

图3是位于图案化磁介质上方的写入元件尖端的介质相对表面的平面图。

图4是包括紧邻一侧缘和后缘设置的屏蔽的写入磁极尖端的介质相对表面视图。

图5A和5B是具有不对称轮廓以减小边缘场的写入磁极尖端的介质相对表面视图。

图6是与相对于写入磁极尖端的前缘和后缘以非零角度设置的读取器组件相邻的写入磁极尖端的介质相对表面视图。

图7A-7C是具有不对称轮廓以减小边缘场的写入元件体的侧视图。

图8A和8B是与用于减小边缘场的不对称屏蔽相邻的写入元件体的侧视图。

尽管以上标识的各附图阐述了本发明的一个或多个实施例，但还可预期其它的实施例，正如在讨论中所指出的。在所有的情况下，本公开内容将本发明作为代表而非限制介绍。应理解落入本发明的原理的范围和精神内的众多其它修改和实施例可由本领域中的技术人员设计出。还应理解以上标识的各附图不是按比例绘制的。

具体实施方式