[发明专利]化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒及其应用

权利要求书

1.化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其特征在于，具备第1组合物和第2组合物，所述第1组合物包含平均一次粒径为15nm～40nm的胶态二氧化硅和碱性化合物、且pH为8～11，所述第2组合物包含聚(甲基)丙烯酸和除其以外的具有2个以上羰基的有机酸、且pH为1～5。

2.根据权利要求1所述的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其中，所述具有2个以上羰基的有机酸的pKa为3以下。

3.根据权利要求1所述的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其中，所述具有2个以上羰基的有机酸是选自马来酸、喹啉酸和柠檬酸中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其中，所述碱性化合物是氢氧化钾或氨。

5.根据权利要求1所述的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其中，所述第1组合物和所述第2组合物中的至少一方还含有苯并三唑。

6.根据权利要求1所述的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，其特征在于，还具备至少含有氧化剂的第3组合物。

7.化学机械研磨用水系分散体的制备方法，其特征在于，混合第1组合物和第2组合物，制备pH为3.5～6.0的化学机械研磨用水系分散体，

所述第1组合物包含平均一次粒径为15nm～40nm的胶态二氧化硅和碱性化合物、且pH为8～11，所述第2组合物包含聚(甲基)丙烯酸和除其以外的具有2个以上羰基的有机酸、且pH为1～5。

8.根据权利要求7所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法，其中，所述化学机械研磨用水系分散体中所含的所述聚(甲基)丙烯酸的质量PA与所述具有2个以上羰基的有机酸的质量OA的质量比，即PA/OA是0.2～5.0。

9.根据权利要求7所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法，其中，所述具有2个以上羰基的有机酸的pKa是3以下。

10.根据权利要求7所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法，其中，所述具有2个以上羰基的有机酸是选自马来酸、喹啉酸和柠檬酸中的至少一种。

11.根据权利要求7所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法，所述碱性化合物是氢氧化钾或氨。

12.根据权利要求7所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法，其中，所述第1组合物和所述第2组合物中的至少一方含有苯并三唑。

13.根据权利要求7所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法，其特征在于，进一步混合含有氧化剂的第3组合物，得到化学机械研磨用水系分散体。

14.化学机械研磨用水系分散体，是利用权利要求7～13中任一项所述的化学机械研磨用水系分散体的制备方法制备的。

15.化学机械研磨方法，使用权利要求14所述的化学机械研磨用水系分散体，将半导体装置的选自由铜或铜合金构成的层、阻挡金属层和绝缘层中的至少一种被研磨面进行化学机械研磨。