[发明专利]显影装置及图像形成装置有效
| 申请号: | 200810126612.X | 申请日: | 2008-06-17 |
| 公开(公告)号: | CN101436024A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
| 发明(设计)人: | 坂本孝;上原大洋 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G15/01;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显影 装置 图像 形成 | ||
1.一种显影装置,其具有:
显影剂收容部,其在内部收容显影剂;
显影剂保持体,其在表面保持显影剂并进行旋转,将在像保持体表面形成的潜像显影为可视像,前述显影剂保持体表面,以按照重力方向下方、与像保持体最接近的部分、重力方向上方的顺序移动的方式旋转;
层厚限制部件,其设置在前述显影剂保持体的旋转方向上游侧,并支撑在前述显影剂收容部上,限制在前述显影剂保持体表面保持的显影剂层的厚度;
第1防泄漏部件,其相对于前述像保持体与前述显影剂保持体的最接近位置,配置在前述显影剂保持体的旋转方向上游侧,并且,相对于前述层厚限制部件与前述显影剂保持体的最接近位置,配置在前述显影剂保持体的旋转方向下游侧,其一端部与前述像保持体接触,防止前述显影剂的泄漏;以及
第2防泄漏部件,其相对于前述显影剂保持体的旋转方向,配置在前述层厚限制部件与前述第1防泄漏部件之间,在前述显影剂保持体表面未保持显影剂的状态下,其一端部与前述显影剂保持体表面接触,并且,在前述显影剂保持体表面保持有显影剂并进行旋转的状态下,该一端部被由前述显影剂保持体保持的显影剂挤压,与前述第1防泄漏部件接触。
2.如权利要求1所述的显影装置,其中,
具有伴随前述显影剂保持体的旋转而空气涡旋的空间,该空间相对于前述层厚限制部件,形成于前述显影剂保持体的旋转方向下游侧,且相对于前述第2防泄漏部件,形成于前述显影剂保持体的旋转方向上游侧。
3.如权利要求1所述的显影装置,其中,
前述显影剂收容部的内壁具有倾斜,该倾斜是在前述第2防泄漏部件的前述显影剂保持体旋转方向上游侧,且在前述层厚限制部件的前述旋转方向下游侧,从前述第2防泄漏部件的另一端部,面向显影剂保持体旋转方向上游侧的倾斜。
4.如权利要求2所述的显影装置,其中,
具有防泄漏部件支撑部件,其具有:第1支撑部,其支撑前述第1防泄漏部件;以及第2支撑部,其支撑前述第2防泄漏部件,
前述空间形成于前述防泄漏部件支撑部件的前述第2支撑部的壁面、与前述层厚限制部件的前述防泄漏部件支撑部件侧的壁面之间。
5.如权利要求1所述的显影装置,其中,
前述第2防泄漏部件,在前述显影剂保持体表面保持显影剂并进行旋转的状态下,被在前述显影剂保持体上保持的显影剂挤压,配置在前述显影剂保持体与前述像保持体之间的最接近位置的重力方向下方。
6.如权利要求1所述的显影装置,其中,
前述显影剂收容部包围前述显影剂保持体的周围,且使与前述像保持体相对的部分敞开,
该显影剂收容部配置在位于前述敞开部分的、前述显影剂保持体与前述像保持体之间的最接近位置的重力方向上方,且靠近像保持体的区域的部位的形状为,随着接近前述像保持体侧,与前述显影剂保持体表面的距离增大。
7.如权利要求1所述的显影装置,其中,
前述显影剂收容部具有接触面,该接触面在前述显影剂保持体表面未保持显影剂的状态下不与前述第2防泄漏部件接触,且在前述显影剂保持体表面保持显影剂并进行旋转的状态下,与前述第2防泄漏部件接触,
前述接触面相对于在前述显影剂保持体与前述像保持体的最接近位置处从像保持体表面引出的沿着重力方向的假想切线,配置在不横切前述假想切线的位置。
8.一种图像形成装置,其具有:
像保持体,其在表面形成潜像;
权利要求1至7的任意一项所述的显影装置,其将前述像保持体表面的潜像显影为可视像;
转印装置,其将前述像保持体表面的可视像转印到介质上;以及
定影装置,其对前述介质表面的可视像进行定影,
前述像保持体相对于前述显影剂保持体的旋转方向,向反方向旋转,经由前述第1防泄漏部件将前述第2防泄漏部件向在前述显影剂保持体上保持的显影剂挤压。
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