[发明专利]半导体发光装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810125560.4 申请日: 2008-06-13
公开(公告)号: CN101350500A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 久义浩;山口勉;西田武弘;平松健司 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40;H01S5/028;H01S5/022;H01L27/15;H01L21/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 闫小龙;刘宗杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 发光 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体发光装置,其特征在于,

具备:形成在同一衬底上的第一以及第二半导体激光器元件;形成 在所述第一以及第二半导体激光器元件的主面上的Au镀层;以及副固 定件,在该副固定件上,使用涂敷在所述Au镀层上的焊料安装有所述 第一以及第二半导体激光器元件,

将夹持各半导体激光器元件的发光区域而对置的区域分别作为第 一区域和第二区域,

在各半导体激光器元件中,所述第一区域靠近所述衬底的外侧,所 述第二区域靠近所述衬底的中心部,

在各半导体激光器元件的所述第一区域和所述第二区域,使所述 Au镀层的厚度的平均值不一致。

2.一种半导体发光装置的制造方法,其特征在于,

具备如下步骤:在同一衬底上形成第一以及第二半导体激光器元 件;在所述第一以及第二半导体激光器元件的主面形成Au镀层;在所 述Au镀层上涂敷焊料,使用所述焊料,将所述第一以及第二半导体激 光器元件安装在副固定件上,

将夹持各半导体激光器元件的发光区域而对置的区域分别作为第 一区域和第二区域,

在各半导体激光器元件中,所述第一区域靠近所述衬底的外侧,所 述第二区域靠近所述衬底的中心部,

在各半导体激光器元件的所述第一区域和所述第二区域,使所述 Au镀层的厚度的平均值不一致。

3.如权利要求2的半导体发光装置的制造方法,其特征在于,

形成所述Au镀层的步骤具有如下步骤:在各半导体激光器元件的 所述第一区域以及所述第二区域形成第一Au镀层;用掩模覆盖各半导 体激光器元件的所述第一区域,并在所述第二区域形成第二Au镀层。

4.如权利要求2的半导体发光装置的制造方法,其特征在于,

还具备如下步骤:在各半导体激光器元件的主面,在所述第一区域 和所述第二区域分别形成电隔离的第一电极图形和第二电极图形,

形成所述Au镀层的步骤具有如下步骤:仅向所述第一电极图形提 供电镀用的电流,形成第一Au镀层;对所述第一电极图形以及所述第 二电极图形提供电镀用的电流,形成第二Au镀层。

5.如权利要求2的半导体发光装置的制造方法,其特征在于,

还具备如下步骤:在各半导体激光器元件的主面,在所述第一区域 和所述第二区域分别形成电隔离的第一电极图形和第二电极图形,

在形成所述Au镀层的步骤中,分别向所述第一电极图形和所述第 二电极图形提供电流值不同的电镀用的电流,形成Au镀层。

6.一种半导体发光装置的制造方法,其特征在于,

具备如下步骤:在同一衬底上形成第一以及第二半导体激光器元 件;在所述第一以及第二半导体激光器元件的主面形成Au镀层;在所 述Au镀层上涂敷焊料,使用所述焊料,将所述第一以及第二半导体激 光器元件安装在副固定件上,

将夹持各半导体激光器元件的发光区域而对置的区域分别作为第 一区域和第二区域,

在各半导体激光器元件中,所述第一区域靠近所述衬底的外侧,所 述第二区域靠近所述衬底的中心部,

在各半导体激光器元件的所述第一区域和所述第二区域,使所述 Au镀层的厚度相同,并且在所述第一区域和所述第二区域,使所述Au 镀层的形成面积不一致。

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