[发明专利]彩膜基板及其制造方法有效
申请号: | 200810117123.8 | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN101315483A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 孙增辉;邵喜斌;王刚;张卓 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G03F7/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100016*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
1.一种彩膜基板制造方法,其特征在于,包括:
步骤1、在基板上形成黑矩阵、红色像素、绿色像素和蓝色像素图形,所述蓝色像素为直接透过蓝色背光的空白区域图形,所述红色像素中含有蓝光LED激发的红光荧光粉,绿色像素中含有蓝光LED激发的绿色荧光粉;所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的形状为嵌套形状组合,L形的绿色像素位于左侧,L形的红色像素位于右侧,且与绿色像素相对设置,面积最小的蓝色像素嵌套在红色像素和绿色像素之间;所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为27~33∶54~66∶6~8;
步骤2、在完成步骤1的基板上制作流平保护层,并使表面平整化;
步骤3、在完成步骤2的基板上形成透明电极。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为30∶60∶7。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步骤1具体包括:
步骤11、在基板上沉积一层黑矩阵薄膜,通过掩模工艺在基板上形成黑矩阵图形;
步骤12、在完成步骤11的基板上依次制备红色像素图形和绿色像素图形,并形成一作为蓝色像素的空白区域图形。
4.根据权利要求1或2所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步骤1具体包括:
步骤21、在基板上依次制备红色像素图形和绿色像素图形,并形成一作为蓝色像素的空白区域图形;
步骤22、在完成步骤21的基板上沉积一层黑矩阵薄膜,通过掩模工艺在基板上形成黑矩阵图形。
5.一种彩膜基板,包括基板,所述基板上形成有黑矩阵、红色像素、绿色像素和蓝色像素,所述红色像素中含有蓝光LED激发的红光荧光粉,所述绿色像素中含有蓝光LED激发的绿色荧光粉,所述蓝色像素为直接透过蓝色背光的空白区域图形;其特征在于,所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的形状为嵌套形状组合,L形的绿色像素位于左侧,L形的红色像素位于右侧,且与绿色像素相对设置,面积最小的蓝色像素嵌套在红色像素和绿色像素之间;所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为27~33∶54~66∶6~8。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为30∶60∶7。
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