[发明专利]彩膜基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810117123.8 申请日: 2008-07-24
公开(公告)号: CN101315483A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 孙增辉;邵喜斌;王刚;张卓 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G03F7/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 刘芳
地址: 100016*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板制造方法,其特征在于,包括:

步骤1、在基板上形成黑矩阵、红色像素、绿色像素和蓝色像素图形,所述蓝色像素为直接透过蓝色背光的空白区域图形,所述红色像素中含有蓝光LED激发的红光荧光粉,绿色像素中含有蓝光LED激发的绿色荧光粉;所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的形状为嵌套形状组合,L形的绿色像素位于左侧,L形的红色像素位于右侧,且与绿色像素相对设置,面积最小的蓝色像素嵌套在红色像素和绿色像素之间;所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为27~33∶54~66∶6~8;

步骤2、在完成步骤1的基板上制作流平保护层,并使表面平整化;

步骤3、在完成步骤2的基板上形成透明电极。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为30∶60∶7。

3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步骤1具体包括:

步骤11、在基板上沉积一层黑矩阵薄膜,通过掩模工艺在基板上形成黑矩阵图形;

步骤12、在完成步骤11的基板上依次制备红色像素图形和绿色像素图形,并形成一作为蓝色像素的空白区域图形。

4.根据权利要求1或2所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步骤1具体包括:

步骤21、在基板上依次制备红色像素图形和绿色像素图形,并形成一作为蓝色像素的空白区域图形;

步骤22、在完成步骤21的基板上沉积一层黑矩阵薄膜,通过掩模工艺在基板上形成黑矩阵图形。

5.一种彩膜基板,包括基板,所述基板上形成有黑矩阵、红色像素、绿色像素和蓝色像素,所述红色像素中含有蓝光LED激发的红光荧光粉,所述绿色像素中含有蓝光LED激发的绿色荧光粉,所述蓝色像素为直接透过蓝色背光的空白区域图形;其特征在于,所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的形状为嵌套形状组合,L形的绿色像素位于左侧,L形的红色像素位于右侧,且与绿色像素相对设置,面积最小的蓝色像素嵌套在红色像素和绿色像素之间;所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为27~33∶54~66∶6~8。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述红色像素、绿色像素和蓝色像素的面积比为30∶60∶7。

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