[发明专利]用于氢气制造用过滤器的薄膜支持基板及氢气制造用过滤器制造方法无效
| 申请号： | 200810110282.5 | 申请日： | 2003-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101318110A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 八木裕;前田高德;太田善纪;内田泰弘 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨松龄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 氢气 制造 过滤器 薄膜 支持 方法 | ||
【权利要求书】：
1. 一种氢气制造用过滤器的制造方法，其特征是，包括：
给具有多个贯通孔的导电性基体材料的该贯通孔中填充树脂部件的填充工序；
在所述导电性基体材料的一个面上，通过无电解电镀及真空成膜法中的任何一种，使Pd合金膜成膜，形成导电性基底层的基底形成工序；
在所述导电性基底层上通过电镀形成Pd合金膜的膜形成工序；以及
只溶解所述树脂部件将其除去的除去工序。
2. 根据权利要求1记载的氢气制造用过滤器的制造方法，其特征是，在所述膜形成工序中，通过电解电镀形成Pd合金膜。
3. 根据权利要求1记载的氢气制造用过滤器的制造方法，其特征是，在所述膜形成工序中，首先，通过电镀将构成Pd合金的各种成分的薄膜层叠，之后，进行热处理，通过成分扩散形成Pd合金膜。
4. 根据权利要求1记载的氢气制造用过滤器的制造方法，其特征是，所述导电性基体材料是不锈钢基板。
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