[发明专利]具有编码器型位置传感器系统的光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，所述照射系统被配置用于调节辐射束；

支撑件，所述支撑件被构造用于保持图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底台，所述衬底台被构造用于保持衬底；

投影系统，所述投影系统被配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；以及

编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统被配置用于测量衬底台相对于参考结构的位置，所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，且所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述凹陷被设置在参考结构中或参考结构上。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述凹陷由参考结构和围绕结构形成，所述围绕结构与参考结构的面对编码器传感器目标的表面相连，所述围绕结构至少部分地包围编码器传感器目标的、在衬底台的运动的主平面中所见的侧部。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，包括在编码器传感器目标和凹陷之间的间隙。

5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中在编码器传感器目标和参考结构之间的间隙小于1毫米。

6.根据权利要求4所述的光刻设备，其中在编码器传感器目标的侧部和围绕结构之间的间隙是1到2毫米的量级。

7.根据权利要求3所述的光刻设备，其中所述参考结构、围绕结构或参考结构和围绕结构两者设置有冷却通道，所述冷却通道用于循环温度稳定化流体。

8.根据权利要求7所述的光刻设备，其中所述流体为液体。

9.根据权利要求3所述的光刻设备，其中所述围绕结构包括铝。

10.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述参考结构包括面对编码器传感器目标的后侧的至少一部分的铝元件，在所述铝元件和所述编码器传感器目标的后侧之间的间隙小于50微米。

11.根据权利要求2所述的光刻设备，还包括透镜调节器，所述透镜调节器被配置用于调节投影系统的下游透镜，所述透镜调节器被配置用于提供所述凹陷的侧部。

12.根据权利要求11所述的光刻设备，其中在透镜调节器与编码器传感器目标的面对透镜调节器的侧部之间的间隙为毫米量级或更小。

13.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述位置位于衬底台的运动的主平面中。

14.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，所述照射系统被配置用于调节辐射束；

支撑件，所述支撑件被构造用于保持图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底台，所述衬底台被构造用于保持衬底；

投影系统，所述投影系统被配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；

编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统被配置用于测量衬底台相对于参考结构的位置，所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标；以及

气源，所述气源被配置用于将经过调节的气流提供给所述编码器传感器目标的表面，所述表面基本平行于衬底台的运动的主平面。

15.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，所述照射系统被配置用于调节辐射束；

支撑件，所述支撑件被构造用于保持图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底台，所述衬底台被构造用于保持衬底；

投影系统，所述投影系统被配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；以及

编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统被配置用于测量衬底台相对于参考结构的位置，所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，

其中所述光刻设备被配置用于在闲置的时间周期中使衬底台沿着所述衬底台的运动的主平面运动，所述衬底台的运动用于防止所述编码器传感器目标被来自衬底台的热量局部加热。