[发明专利]用于辐射成像系统的紧凑型校正与准直装置有效
| 申请号: | 200810105429.1 | 申请日: | 2008-04-29 |
| 公开(公告)号: | CN101571496A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
| 发明(设计)人: | 刘耀红;邓艳丽;唐华平;曹艳峰;陈玉梅;闫忻水;贾玮;刘晋升 | 申请(专利权)人: | 同方威视技术股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;A61B6/03 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王庆海;王小衡 |
| 地址: | 100084北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 辐射 成像 系统 紧凑型 校正 装置 | ||
1.一种用于辐射成像系统的校正与准直装置,包括:
准直组件;
校正组件,由多个可分离的小校正块顺序排列组成;
操纵装置,其处于校正组件的外侧,用于控制各个小校正块的移动;
其中准直组件和校正组件之间保持一定间隔以形成直线窄缝,当该校正与准直装置执行准直功能时,辐射成像系统发射的射线通过该直线窄缝以被准直;当该校正与准直装置执行校正功能时,操纵装置开始工作,顺序推动各小校正块分别进入窄缝与准直块接触,形成对射线的不同厚度的阻挡,由此得到不同的阻挡厚度以及相对应的射线强度关系。
2.根据权利要求1的校正与准直装置,其中每个小校正块包括在其底部上的触动块。
3.根据权利要求1的校正与准直装置,其中所述多个小校正块是同一种材料。
4.根据权利要求1的校正与准直装置,其中所述多个小校正块包括多种不同材料,其中相同材料的小校正块连续排列在一起。
5.根据权利要求1的校正与准直装置,其中准直组件包括复位弹簧,用于使与其接触的小校正块回到初始位置。
6.根据权利要求1的校正与准直装置,其中准直组件还包括定位传感器,用于检测小校正块是否被推入到指定位置。
7.根据权利要求1的校正与准直装置,其中操纵装置包括电动机、丝杠和滑动块,用于推动各小校正块依次进入窄缝,形成对射线的不同厚度的阻挡。
8.根据权利要求7的校正与准直装置,其中所述滑动块的顶部表面的长度大于或等于两个相邻小校正块的底部表面的相互面对的边缘之间的距离,但是小于该距离的2倍。
9.根据权利要求1-2或4-8之一的校正与准直装置,其中同种材料的各小校正块之间具有关联装置,用于当后续的同种小校正块被推入窄缝时使前面的小校正块仍保持在窄缝中;而不同种材料的相邻两个小校正块之间不具有关联装置,使得不同种材料的相邻两个小校正块中的后一个小校正块被推入窄缝时,前面不同材料的小校正块能够回到初始位置。
10.一种用于辐射成像系统的校正与准直装置,包括:
两个准直组件,该两个准直组件的一部分形成准直窄缝,用于在执行准直功能时对射线进行准直;该两个准直组件的另一部分形成空腔;
校正组件,由多个可分离的小校正块顺序排列组成,该校正组件位于所述空腔中;
操纵装置,其处于校正组件的外侧,用于控制各个小校正块的移动;
其中当该校正与准直装置执行校正功能时,操纵装置开始工作,顺序推动各小校正块分别位于射线的光路中的指定位置以对射线形成不同厚度的阻挡,由此得到不同的阻挡厚度以及相对应的射线强度关系。
11.根据权利要求10的校正与准直装置,其中每个小校正块包括在其底部上的触动块。
12.根据权利要求10的校正与准直装置,其中所述多个小校正块是同一种材料。
13.根据权利要求10的校正与准直装置,其中所述多个小校正块包括多种不同材料,其中相同材料的小校正块连续排列在一起。
14.根据权利要求10的校正与准直装置,其中远离校正组件的准直组件包括复位弹簧,用于使与其接触的小校正块回到初始位置。
15.根据权利要求10的校正与准直装置,其中远离校正组件的准直组件还包括定位传感器,用于检测小校正块是否被推入到指定位置。
16.根据权利要求10的校正与准直装置,其中操纵装置包括电动机、丝杠和滑动块。
17.根据权利要求16的校正与准直装置,其中所述滑动块的顶部表面的长度大于或等于两个相邻小校正块的底部表面的相互面对的边缘之间的距离,但是小于该距离的2倍。
18.根据权利要求10-11或13-17之一的校正与准直装置,其中同种材料的各小校正块之间具有关联装置,用于当后续的同种小校正块被推入指定位置时使前面的小校正块仍保持在原位;而不同种材料的相邻两个小校正块之间不具有关联装置,使得在不同种材料的相邻两个小校正块中的后一个小校正块被推入指定位置时,前面不同材料的小校正块能够回到初始位置。
19.一种辐射成像系统,其包括根据权利要求1-8或10-17中任一项所述的校正与准直装置。
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