[发明专利]一种涂层超导高W含量Ni-W合金基带的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810103493.6 申请日: 2008-04-07
公开(公告)号: CN101249607A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 索红莉;祝永华;赵跃;马麟;刘敏;高忙忙;程艳玲;何东;周美龄 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B23P17/00 分类号: B23P17/00;C22C19/03;C22C1/04;B22F3/00;B21B1/22;C22F1/10;C23G1/02
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 张燕慧
地址: 100022*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 涂层 超导 含量 ni 合金 基带 制备 方法
【权利要求书】:

1. 一种涂层超导高W含量Ni-W合金基带的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)采用纯度为99.9%以上的Ni粉和W粉为原材料,配制成W原子百分含量为7%~9.5%的合金粉末,使用高能球磨将合金粉末混合均匀,球粉重量比为2~10,球磨时间为1~4h;

2)将经步骤1)中球磨的合金粉末装入到模具中进行冷等静压,压强为200~300MPa,保持3~8min,再于900~1200℃进行均匀化退火1~10h,得到Ni-W合金坯锭;

3)将步骤2)中得到的Ni-W合金坯锭,于250~500℃进行温轧,采用2~5%的道次变形量,当总的变形量大于75%或厚度小于2mm时,停止温轧,得到Ni-W合金带子;

4)将步骤3)中得到的Ni-W合金带子酸洗,除去表面氧化物;

5)将步骤4)中酸洗后的Ni-W合金带子于室温~200℃温度精轧,使用表面粗糙度小于10nm的高光洁度轧辊,采用2~5%的道次变形量,得到轧制基带,从步骤2)中的Ni-W合金坯锭到轧制基带,总的变形量大于98%;

6)将步骤5)中得到的轧制基带在真空或保护气氛下进行一步再结晶退火或两步再结晶退火处理,得到涂层超导高W含量Ni-W合金基带;其中,一步退火工艺为:将轧制基带从室温升温到1000~1400℃,保温0.5~3h;两步退火工艺为:将轧制基带从室温升温到700~800℃,保温0.5~1h后;再升温到1000~1400℃,保温0.5~3h。

2. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,当完成步骤3)之后,可直接将步骤3)中温轧得到的Ni-W合金带子,于步骤5)中进行精轧,再于步骤4)中酸洗,最后于步骤6)中进行再结晶退火处理。

3. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤6)中所述的保护气氛为N2或Ar与H2的混和气。

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