[发明专利]拾取透镜架及其制造方法和拾取透镜架保护膜的形成方法无效
| 申请号: | 200810098227.9 | 申请日: | 2008-05-23 |
| 公开(公告)号: | CN101315782A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
| 发明(设计)人: | 小川信一 | 申请(专利权)人: | 三爱斯润滑株式会社 |
| 主分类号: | G11B7/09 | 分类号: | G11B7/09;G11B7/12;G11B7/22;G02B7/02 |
| 代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周建秋;王凤桐 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 拾取 透镜 及其 制造 方法 保护膜 形成 | ||
技术领域
本发明涉及保持用于向光记录介质的写入以及读取的拾取透镜的拾取透镜架、拾取透镜架的制造方法及拾取透镜架的保护膜的形成方法。
背景技术
近年来,为了增大光记录介质的容量,各种记录方式的光记录介质被实用化。在光记录介质中记录大容量的信号时,能不受环境影响地进行写入/读取的性能要求比以往的容量的光记录介质好。因此,不仅对于光记录介质,对于在光记录介质中写入信号以及读取在光记录介质中记录的信息的拾取透镜、以及保持该拾取透镜的拾取透镜架,也要求对温度以及湿度具有高的耐受性。此外,对于拾取透镜架,除了对环境变化的高的耐受性之外,还要求具有低吸湿性、尺寸稳定性、以及高硬度,液晶聚合物作为高标准地满足这样的要求的材料正在被研究。
另外,在光记录介质中,为了实现大容量化而要求增大记录密度,为了以高密度进行信号的写入/读取,必须缩短拾取透镜与光记录介质的距离。但是,拾取透镜与光记录介质的距离缩短时,由于振动等,拾取透镜或保持拾取透镜的拾取透镜架会与光记录介质接触。由此,为了即使拾取透镜架振动而与光记录介质接触,也能防止光记录介质的损伤,正在研究将保护层或保护部件设置在拾取透镜架上(专利文献1-4)。
专利文献1:特开2001-319355号公报
专利文献2:特开2002-222535号公报
专利文献3:特开2002-269790号公报
专利文献4:特开2003-272206号公报
但是,液晶聚合物除了上述性能之外,还具有高的耐化学性,因此,为了形成保护层,即使涂布已溶解于溶剂(例如有机溶剂)的保护层用材料,也无法使表面熔融,从而无法确保液晶聚合物与保护层的附着性。因此,在拾取透镜架中使用液晶聚合物时,实际上,无法设置用于防止光记录介质的损伤的保护层或保护部件,所以难以提供与大容量的光记录介质相适应的拾取透镜架。
发明内容
因此,本发明的目的是提供一种拾取透镜架,其具有保护层,该保护层由对环境变化具有高耐受性的材料形成,且即使与光记录介质接触也不会使得光记录介质受损伤。本发明的目的还在于提供一种拾取透镜架,其能将写入光以及读取光在光记录介质上的所希望的位置上正确地对焦,同时能靠近光记录介质地设置,能适应大容量的光记录介质。
为了解决上述课题,本发明提供一种拾取透镜架,用于保持拾取透镜,同时至少在光记录介质侧部分具有保护膜,所述拾取透镜将用于在光记录介质的信息记录面上写入信号的写入光和用于读取在信息记录面上记录的信号的读取光在信息记录面上对焦,其特征在于,所述保护膜具有经过活化方法活化了的树脂层和树脂层上形成的冲击吸收层。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,树脂为热塑性树脂。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,树脂为液晶聚合物。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,活化方法为激光照射。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,激光照射是在树脂层上照射近红外区域光。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,活化方法为放射线照射。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,通过活化方法使树脂层成为等离子体状态。
根据本发明的拾取透镜架,其特征在于,冲击吸收层是通过涂布具有冲击吸收性的树脂而形成的。
本发明提供一种拾取透镜架的制造方法,该拾取透镜架用于保持拾取透镜,所述拾取透镜将用于在光记录介质的信息记录面上写入信号的写入光和用于读取在信息记录面上记录的信号的读取光在信息记录面上对焦,其特征在于,该制造方法包括:形成拾取透镜架的外形形状的外形形成工序、通过活化方法对拾取透镜架中的至少光记录介质侧部分进行活化的活化工序、在经活化工序活化后的部分上形成冲击吸收层的冲击吸收层形成工序。
本发明提供一种拾取透镜架的保护膜的形成方法,该形成方法在拾取透镜架中的至少光记录介质侧的部分上形成保护膜,所述拾取透镜架用于保持拾取透镜,所述拾取透镜将用于在光记录介质的信息记录面上写入信号的写入光和用于读取在信息记录面上记录的信号的读取光在信息记录面上对焦,其特征在于,该形成方法包括:通过活化方法对拾取透镜架中的至少光记录介质侧部分进行活化的活化工序、和在经活化工序活化后的部分上形成冲击吸收层的冲击吸收层形成工序。
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