[发明专利]印刷电路板及其形成方法无效
申请号: | 200810095810.4 | 申请日: | 2008-04-24 |
公开(公告)号: | CN101567326A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 张荣骞 | 申请(专利权)人: | 相互股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/48;H01L23/538;H05K3/32;H05K1/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷 电路板 及其 形成 方法 | ||
1.一种印刷电路板的形成方法,包含:
提供一载板;
形成一第一线路于该载板上;
沉积一薄膜于该载板上;
利用该薄膜建造一电子零件于该载板上,该电子零件电连接该第一线路,其中该利用该薄膜建造该电子零件于该载板上的步骤包含以该薄膜为基底生长一外延结构于该薄膜上;
毯覆式地形成一介电层以包覆该电子零件;
去除该介电层的一部分以使该电子零件的一上表面露出;
形成一第二线路于该介电层上,该第二线路电连接该电子零件;
形成一绝缘层覆盖该第二线路及该介电层;及
移除该载板,
其中该方法不包含直接将该电子零件整体地粘装于该载板上,
其中在毯覆式地形成该介电层以包覆该电子零件的该步骤之前,该电子零件未经封装。
2.如权利要求1所述的方法,其中该载板为一金属基板,且形成该第一线路的步骤利用电镀。
3.如权利要求1述的方法,其中该薄膜的材料选自以下项目所组成的组:硅、砷化镓、磷化铟、磷化镓、蓝宝石、及碳化硅。
4.如权利要求1所述的方法,其中该沉积该薄膜于该载板的步骤利用溅镀、化学气相沉积或网板印刷。
5.如权利要求1所述的方法,其中该电子零件为一二极管。
6.如权利要求5所述的方法,其中该二极管包含PN结二极管、光电二极管、发光二极管、及激光二极管。
7.如权利要求1所述的方法,其中该利用该薄膜建造该电子零件于该载板上的步骤包含以该薄膜为基底利用一半导体工艺形成一晶体管结构于该载板上。
8.一种印刷电路板,该印刷电路板以如权利要求1所述的方法制成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造