[发明专利]含有烧绿石相和氧化物的陶瓷粉末,陶瓷层和层体系

权利要求书

1.陶瓷粉末，其含有总式为A_xB_yO_z的烧绿石相和二次氧化物C_rO_s，其中A=Gd、Sm、Nd、La或Y，B=Hf、Zr、Ti或Sn，C=Hf或Zr，x,y＝2，z＝7，且r,s>0，二次氧化物的含量为0.5－10wt％。

2.权利要求1所述的陶瓷粉末，其中的A=Gd。

3.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中的B=Hf。

4.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中的B=Zr。

5.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中的C≠B。

6.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中的C=B。

7.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中的C=Hf。

8.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中的C=Zr。

9.权利要求1所述的陶瓷粉末，其含有最多3wt%的二次氧化物。

10.权利要求1所述的陶瓷粉末，其含有最多8wt%的二次氧化物。

11.权利要求1所述的陶瓷粉末，其中的二次氧化物是HfO₂。

12.权利要求1所述的陶瓷粉末，其中的二次氧化物是ZrO₂。

13.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其含有下列组分作为烧结助剂：

不超过0.05wt%的氧化硅，

不超过0.1wt%的氧化钙，

不超过0.1wt%的氧化镁，

不超过0.1wt%的氧化铁，

不超过0.1wt%的氧化铝，

不超过0.08wt%的氧化钛。

14.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其含有至少92wt%的烧绿石相。

15.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其只含有一种烧绿石相。

16.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其只含有两种烧绿石相。

17.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其含有混晶作为烧绿石相。

18.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其只含有一种二次氧化物C_rO_s。

19.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其只含有两种二次氧化物C_rO_s和C’_r’O_s’。

20.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中所述的一种或多种二次氧化物只以氧化物形式存在。

21.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中所述一种或多种二次氧化物完全以混晶的形式存在。

22.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其中所述一种或多种二次氧化物既以氧化物形式也以混晶形式存在。

23.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其由烧绿石相A₂B₂O₇、氧化物和烧结助剂组成。

24.权利要求1或2所述的陶瓷粉末，其由烧绿石相、二次氧化物C_rO_s组成且不含权利要求13所述的烧结助剂。

25.陶瓷层(13)，其由前述权利要求1至24中任一项所述的陶瓷粉末制得。

26.层体系，其具有基材(4)和权利要求25所述的陶瓷层(13)。

27.权利要求26所述的层体系，其具有金属结合层(7)。

28.权利要求26或27所述的层体系，其具有内陶瓷层(10)，其中在内陶瓷层(10)上存在陶瓷层(13)。