[发明专利]微波处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及微波处理装置，特别是涉及使用了微波照射机构的微波处理装置的改进。

背景技术

以往，作为使用了微波照射机构的微波处理装置，除微波炉以外，还有本案申请人先前提出的有害物质的微波处理装置(日本特愿2005-353936)等。

但是，在容量大的微波处理装置中，形成在筐体具有检修盖的检修口。

通常，检修口和检修盖是通过采用使检修口的缘部和检修盖直接金属接触的金属接触构造，来使电磁波不会从检修口的缘部和检修盖的间隙泄漏。

但是，虽然在使检修口的缘部和检修盖为金属接触构造的情况下，能够防止电磁波的泄漏，然而，反之，象本案申请人先前提出的有害物质的微波处理装置那样，在因处理时产生的蒸汽等造成筐体内部的压力上升的微波处理装置中，存在筐体内部的气体容易从检修口的缘部和检修盖的微小间隙泄漏的问题。

本发明借鉴了上述以往的微波处理装置所具有的问题点，其目的在于，提供一种能够使电磁波以及筐体内部的气体不会从检修口的缘部和检修盖的间隙泄漏的微波处理装置。

发明内容

为了达到上述目的，本发明的微波处理装置具有导入处理对象物的筐体，和配设在该筐体的恰当部位的微波照射机构，在筐体形成具有检修盖的检修口，其特征在于，在检修口的缘部和检修盖之间配置密封部件，并且，使检修口的缘部和检修盖为金属接触构造。

在该情况下，可以使检修口的缘部和检修盖直接金属接触。

另外，密封部件可以使用金属类密封部件。

发明效果

根据本发明的微波处理装置，在具有导入处理对象物的筐体和配设在该筐体的恰当部位的微波照射机构，在筐体形成具有检修盖的检修口的微波处理装置中，在检修口的缘部和检修盖之间配置密封部件，并且，使检修口的缘部和检修盖为金属接触构造，据此，通过金属接触构造，使电磁波不会从检修口的缘部和检修盖的间隙泄漏，同时，通过在检修口的缘部和检修盖之间配置的密封部件，可以使筐体内部的气体不会从检修口的缘部和检修盖的间隙泄漏。

另外，通过使检修口的缘部和检修盖直接金属接触，可以切实地使电磁波不会从检修口的缘部和检修盖的间隙泄漏。

另外，密封部件可以使用金属类密封部件，据此，可以提高针对高温的气体的耐久性。

附图说明

图1表示本发明的微波处理装置的一个实施例，(a)是正视图，(b)是俯视图。

图2是表示具有检修盖的检修口的剖视图，(a)是整体的剖视图，(b)是主要部位的剖视图。

符号说明

1    筐体

2    微波照射机构

3    检修口

3    1检修口的凸缘部(检修口的缘部)

4    检修盖

5    密封部件

具体实施方式

下面，根据附图，说明本发明的微波处理装置的实施方式。

【实施例1】

图1～图2表示本发明的微波处理装置的一个实施例。

该微波处理装置是用于进行有机卤化合物等的有害物质的处理的装置，具有作为将附着、吸附着有机卤化合物等的有害物质的固体(例如集尘灰等的粉体、污染土壤、河底的底质等)导入的密封容器而构成的筐体1，以及将微波向导入到该筐体1内的附着、吸附着有害物质的固体照射的、配设在筐体1的恰当部位的微波照射机构2，在筐体1的恰当部位形成具有检修盖4的检修口3。

在该情况下，如图2所示，在检修口3的缘部，本实施例中是在检修口3的凸缘部31和检修盖4之间配置密封部件5，并且，使检修口3的凸缘部31和检修盖4为金属接触构造。

因此，在本实施例中，在检修口3的凸缘部31(以及/或者与凸缘部31相对的检修盖4)形成周槽状的密封部件5的嵌入槽32，在将密封部件5嵌入该嵌入槽32的状态下，借助任意的连接部件6，将检修盖4安装到检修口3的凸缘部31，此时，密封部件5完全进入嵌入槽32，检修口3的凸缘部31和检修盖4直接金属接触，据此，电磁波不会从检修口3的凸缘部31和检修盖4的间隙泄漏。

在该情况下，确定嵌入槽32和密封部件5的尺寸以及形状，以便能够通过完全进入到嵌入槽32的密封部件5，切实地防止气体从检修口3的凸缘部31和检修盖4的间隙泄漏。

另外，密封部件虽然可以使用O形环等的通用的密封部件，但适合使用针对高温的气体具有耐久性的金属类、硅树脂类、氟树脂类等的密封部件。