[发明专利]基于激光的加工方法及激光加工装置有效
| 申请号: | 200810094617.9 | 申请日: | 2008-04-24 |
| 公开(公告)号: | CN101293307A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
| 发明(设计)人: | 镰田将尚;住吉哲实;辻川晋 | 申请(专利权)人: | 彩覇阳光株式会社 |
| 主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;B23K26/04;G02F1/35 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余朦;方挺 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 激光 加工 方法 装置 | ||
1.基于激光的加工方法,通过照射具有第一波长的第一激光和具 有第二波长的第二激光来对加工对象物进行加工,其中,第二波长为 第一波长高次谐波,所述加工对象物为由基板和透明层构成的物体的 所述透明层部分,所述透明层形成于基板表面的至少一部分上且至少 相对于第一波长是透明的,所述方法具有与单独照射各个激光相比更 高的加工效率且减轻基板的损伤,所述方法包括:
产生第一激光的步骤,所述第一激光为超短脉冲;
将所述第一激光能量的一部分变换成第二激光的步骤,所述第二 激光为超短脉冲;
对第一激光相对于第二激光赋予1ps以上并且100ps以下的时间 延迟的步骤;
将第一激光及第二激光在同轴上聚光的步骤;
对作为加工对象物的所述透明层的表面或者内部对准聚光点照射 被聚光的第一激光及第二激光的步骤。
2.如权利要求1所述的基于激光的加工方法,第一波长为超过 500nm的波长,第二波长为500nm以下的波长。
3.如权利要求1或2所述的基于激光的加工方法,所述透明层为 绝缘体。
4.如权利要求1或2所述的基于激光的加工方法,所述基板为半 导体基板。
5.激光加工装置,对由基板和透明层构成的物体的所述透明层部 分进行加工,所述透明层形成于基板表面的至少一部分上,所述装置 包括:
激光发生装置,其产生第一激光,所述第一激光为具有第一波长 的超短脉冲,其中所述透明层至少相对于第一波长是透明的;
波长变换装置,其将所述第一激光能量的一部分变换成第二激光, 所述第二激光为具有第一波长高次谐波的第二波长的超短脉冲;
延迟发生装置,其对第一激光相对于第二激光赋予1ps以上并且 100ps以下的时间延迟;
聚光装置,其将第一激光及第二激光在同轴上聚光;以及
对准聚光点的装置,对作为加工对象物的所述透明层的表面或内 部对准聚光点,
其中,所述装置具有与单独照射各个激光相比更高的加工效率且 减轻基板的损伤。
6.如权利要求5所述的激光加工装置,第一波长为超过500nm的 波长,第二波长为500nm以下的波长。
7.如权利要求5或6所述的激光加工装置,所述延迟发生装置通 过对第一激光赋予比第二激光更长的光路长度来实现。
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