[发明专利]对作公转运动的零部件进行润滑的方法以及一种行星式抛磨盘

权利要求书

1. 对作公转运动的零部件进行润滑的方法，其特征是：将作公转运动的多个零部件安装在一个盛油盘上，盛油盘随着所述零部件的公转而自转，盛油盘自转的中轴线与所述零部件公转运动的中轴线共线，在盛油盘上设置有包围着所述零部件的挡板，利用挡板阻挡盛油盘上的油液朝离心方向流动，使得油液在离心力作用下挤压堆积在挡板侧壁上，在盛油盘上安装有甩油轮，甩油轮靠近挡板的阻挡油液的一侧，利用甩油轮的自转运动将堆积在挡板侧壁上的油液向四周甩开，利用飞溅的油液对所述的作公转运动的多个零部件进行润滑。

2. 一种行星式抛磨盘，包括一个大转盘，大转盘上安装有多个位于大转盘下方的行星磨轮，行星磨轮一边自转一边随着大转盘的转动而围绕大转盘的中轴线公转，驱动行星磨轮自转的多个零部件位于大转盘的上方，并且也随着大转盘的转动而围绕大转盘的中轴线公转，行星磨轮的转轴贯穿大转盘，行星磨轮的转轴上套接有与大转盘固定连接的轴承座，其特征是：所述大转盘是一个盛装润滑油的盛油盘，在大转盘上设置有挡板，挡板围成包围圈，将所述的驱动行星磨轮自转的多个零部件包围于其内，在大转盘上安装有甩油轮，甩油轮靠近挡板的阻挡油液朝离心方向流动的一侧侧壁。

3. 如权利要求2所述的行星式抛磨盘，其特征是：所述甩油轮与行星磨轮同轴连接。

4. 如权利要求2所述的行星式抛磨盘，其特征是：在所述挡板上开设有凹坑，所述甩油轮的边缘插入凹坑但不与凹坑接触。

5. 如权利要求2所述的行星式抛磨盘，其特征是：在大转盘上盖有盖板，盖板将所述甩油轮以及被所述挡板包围的多个零部件罩于其内。

6. 如权利要求2所述的行星式抛磨盘，其特征是：在所述行星磨轮的转轴上固定有隔油盖，隔油盖罩在行星磨轮转轴轴承座的上方并且开设有环槽，所述轴承座的顶部设置有凸缘，凸缘插入所述环槽，但不与环槽接触，构成迷宫密封结构。

7. 如权利要求6所述的行星式抛磨盘，其特征是：所述的隔油盖是固定在行星磨轮转轴上的传动轮。