[发明专利]琉璃画新工艺有效
| 申请号： | 200810092300.1 | 申请日： | 2008-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN101429054A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 史上海 | 申请（专利权）人： | 史上海 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86;B44D2/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 043300山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 琉璃 新工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种琉璃画的制作工艺，其特征在于：
在设计图上规划出琉璃釉熔融能力强、流动扩散的“势利范围”，此“势 利范围”内不施釉，所述的“势利范围”是依据施釉的厚薄而确定的，即 施釉的厚度为3-5毫米时，琉璃釉的流动、扩散范围是施釉厚度的五倍， 即15-25毫米；
琉璃釉采用天然矿物原料，简便粗制而成；
釉面砖是琉璃画的载体；琉璃釉彩氧化气氛烧成，釉烧温度达到摄氏 1120度；
其中，所述的琉璃釉是铅和石英组成基础釉，即铅：65-75％，石英： 20-25％，外加着色矿物原料，简便粗制而成，所述的着色矿物原料是铁、 铜、锰、钴。
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