[发明专利]为浸没光刻提供流体的装置和方法

权利要求书

1.一种用于浸没光刻的装置，包括：

光学投射系统，该光学投射系统具有一最终光学元件，该光学投射系统用于把一图像投射到一工件上；

台，当图像被投射到工件上时，该台用于支撑着邻近光学投射系统的所述工件；

喷嘴，用于向最终光学元件和工件之间的间隔中提供一浸没流体；

其中，所述喷嘴具有：一内部腔室，用于把浸没流体保持在所述间隔中；一外部腔室，用于回收那些流出内部腔室的浸没流体；并且

其中，喷嘴还包括一多孔元件，该多孔元件被设置在外部腔室中。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，喷嘴还包括一槽，该槽位于内部腔室和外部腔室之间。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，多孔元件选自由网、多孔材料、其内具有蚀刻孔的元件所组成的组。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，内部腔室形成最终光学元件和工件之间的所述间隔的一部分，并且喷嘴具有一些孔，这些孔被设置在内部腔室上方，以便实现把流体引入到内部腔室和从内部腔室抽吸流体中的至少一种功能。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述的这些孔被设置在最终光学元件的对置侧。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，喷嘴还包括一对缓冲槽，这对缓冲槽沿着所述台相对于光学投射系统的移动方向被设置在所述最终光学元件的对置侧。

7.根据权利要求6所述的装置，其中，喷嘴还包括一些清洗孔，并且所述的这对缓冲槽中的每条缓冲槽都与至少一个所述清洗孔流体连通。