[发明专利]复合金属基板及其工艺无效

专利信息
申请号: 200810090563.9 申请日: 2008-04-03
公开(公告)号: CN101552211A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 吴建男;杨耿忠;黄维乾 申请(专利权)人: 旭德科技股份有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/488;H05K3/46;H05K1/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 彭久云
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 复合 金属 及其 工艺
【权利要求书】:

1.一种复合金属基板的工艺,包括:

提供复合金属基材,该复合金属基材包括第一金属层、中间层以及第二金属层;

形成多个贯穿该复合金属基材的传动孔;

图案化该第一金属层,以形成多个半蚀孔;

图案化该第二金属层,以形成多个焊垫;以及所述多个

去除该中间层显露于所述多个焊垫之外的区域,以形成多个连接垫,其中所述多个连接垫分别覆盖所述多个半蚀孔,并分别与所述多个焊垫相连。

2.如权利要求1所述的复合金属基板的工艺,其中提供该复合金属基材的步骤包括:

在该第一金属层上全面性电镀该中间层;以及

在该中间层上全面性电镀该第二金属层。

3.如权利要求1所述的复合金属基板的工艺,其中图案化该第一金属层的步骤包括:

将感光膜覆盖该第一金属层,并进行曝光、显影工艺以使该感光膜形成多个感光孔;以及

对显露于所述多个感光孔的中的该第一金属层进行蚀刻,以形成所述多个半蚀孔。

4.如权利要求3所述的复合金属基板的工艺,其中形成所述多个半蚀孔之后,还包括无电电镀、电镀或印刷焊接材料于各该半蚀孔中。

5.如权利要求1所述的复合金属基板的工艺,其中图案化该第二金属层的步骤包括:

将感光膜覆盖该第二金属层,并进行曝光、显影工艺以使该感光膜形成感光图案;

以该中间层作为蚀刻中止层,对显露于该感光图案之外的该第二金属层进行蚀刻,以形成所述多个焊垫;以及

当蚀刻中止后,去除该感光膜。

6.如权利要求1所述的复合金属基板的工艺,其中去除该中间层显露于所述多个焊垫之外的区域包括蚀刻。

7.如权利要求1所述的复合金属基板的工艺,还包括电镀抗氧化层于各该焊垫的显露表面。

8.一种复合金属基板,包括:

第一金属层,具有多个半蚀孔;

第二金属层,具有多个焊垫,所述多个焊垫分别对应所述多个半蚀孔;以及

中间层,经图案化而形成多个连接垫,而所述多个连接垫分别覆盖所述多个半蚀孔,并分别与所述多个焊垫相连。

9.如权利要求8所述的复合金属基板,还包括焊接材料,其配置于各该半蚀孔中。

10.如权利要求8所述的复合金属基板,其中该第一金属层与该第二金属层的材质包括铜或铝。

11.如权利要求8所述的复合金属基板,其中该中间层的材质包括镍、铬或镍金。

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