[发明专利]利用具有仿真衍射信号输入的支持向量机的光学计量

权利要求书

1.一种用于确定形成在半导体晶片上的结构的一个或多个特征的方法，该方法包括：

a)获得结构的轮廓模型，所述轮廓模型由对所述结构的几何形状进行表征的轮廓参数定义；

b)获得轮廓参数值组；

c)利用所述轮廓参数值组生成仿真衍射信号组，每个仿真衍射信号表征从所述结构衍射的光的行为；

d)利用所述仿真衍射信号组作为对支持向量机的输入并且利用所述轮廓参数值组作为所述支持向量机的期望输出，对所述支持向量机进行训练；

e)获得从所述结构离开的测得衍射信号；

f)将所述测得衍射信号输入到所述经训练的支持向量机；以及

g)在f)之后，获得所述结构的轮廓参数值作为所述经训练的支持向量机的输出。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述仿真衍射信号组是利用信号参数的标准组生成的，所述标准组包括反射参数和偏振参数，所述反射参数表征光在所述结构上反射时的强度改变，所述偏振参数表征光在所述结构上反射时的偏振状态改变，其中，所述偏振参数包括：

第一偏振参数，表征被相对于所述反射参数进行了归一化的、对去偏振效果平均的复数反射系数的绝对值的平方之间的差；

第二偏振参数，表征被相对于所述反射参数进行了归一化的、对去偏振效果平均的复数反射系数的干涉的虚部分量；以及

第三偏振参数，表征被相对于所述反射参数进行了归一化的、对去偏振效果平均的复数反射系数的干涉的实部分量。

3.如权利要求1所述的方法，还包括：

将轮廓参数值归一化，其中，所述仿真衍射信号组是利用经归一化的轮廓参数值生成的；以及

对在g)中获得的所述轮廓参数值进行去归一化。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述仿真衍射信号组是利用建模技术生成的。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述建模技术包括严格耦合波分析、积分法、菲涅耳法、有限分析或者模态分析。

6.如权利要求1所述的方法，还包括：

确定轮廓参数的相关性；以及

基于所确定的相关性，选择用于在a)中定义所述轮廓模型的轮廓参数。

7.如权利要求1所述的方法，其中，所述支持向量机是利用连续最小优化在d)中训练的。

8.如权利要求1所述的方法，在d)之后和e)之前：

获得仿真衍射信号的测试组和轮廓参数值的测试组；

利用所述仿真衍射信号的测试组作为对所述支持向量机的输入，并且利用所述轮廓参数值的测试组作为所述支持向量机的期望输出，对所述支持向量机进行测试；以及

如果一个或多个精度标准未得到满足，则利用所述仿真衍射信号的测试组中的一个或多个仿真衍射信号以及所述轮廓参数值的测试组中的一个或多个轮廓参数值，重新训练所述支持向量机。

9.如权利要求8所述的方法，还包括：

在对所述支持向量机进行测试之前，将噪声信号插入到所述仿真衍射信号的测试组中的所述仿真衍射信号中。

10.一种包含计算机可执行指令的计算机可读存储介质，所述计算机可执行指令用于使计算机确定形成在半导体晶片上的结构的一个或多个特征，所述计算机可读存储介质包括用于下述过程的指令：

a)获得结构的轮廓模型，所述轮廓模型由对所述结构的几何形状进行表征的轮廓参数定义；

b)获得轮廓参数值组；

c)利用所述轮廓参数值组生成仿真衍射信号组，每个仿真衍射信号表征从所述结构衍射的光的行为；

d)利用所述仿真衍射信号组作为对支持向量机的输入并且利用所述轮廓参数值组作为所述支持向量机的期望输出，对所述支持向量机进行训练；

e)获得从所述晶片上制造的所述结构离开的测得衍射信号；

f)将所述测得衍射信号输入到所述经训练的支持向量机；

g)在f)之后，获得所述结构的轮廓参数值作为所述经训练的支持向量机的输出。