[发明专利]光敏性糊剂组合物及用其形成等离子体显示屏障壁的方法

说明书

技术领域

本发明涉及等离子体显示屏(plasma display panel，以下称为“PDP”)障壁形成用光敏性糊剂组合物和PDP障壁形成方法，更详细地说，本发明涉及如下PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物和PDP障壁形成方法，该组合物适合于利用紫外线照射的光刻(photolithography)法，利用一次光刻工序就能够形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形(profile)，不仅如此，该组合物还能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度(firing margin)，从而能够形成安全的障壁图案。

背景技术

在以PDP为代表的LCD、OLED等平板显示器的市场需求增加的同时，在趋向大型化方面竞争正在加速，由此要求通过显示元件的高精细化、高分辨率化来实现全高清(full High Definition)画质。

PDP是利用如下现象的平板显示器：在上板和下板之间填充的Ne、Xe等气体放电时产生等离子体，由该等离子体放出的真空紫外线(主要为147nm波长带)与荧光体发生碰撞，变为可见光区域的红、绿、蓝色光。

PDP中的障壁是为了确保放电空间并防止相邻的单元(Cell)之间在电、光学上相互串扰(Cross talk)而形成于PDP的背面基板上的结构物，其起到决定PDP的图像显示品质的重要要素的作用。

作为PDP障壁形成方法，已知有印刷法(printing method)、喷砂法(sandblast method)、湿式蚀刻法(wet-etching method)等。但是，上述方法的工序复杂，难以形成满足高纵横比(high aspect ratio)的结构物。特别是，喷砂法和湿式蚀刻法不仅实现微细图案是非常困难的，而且因环境污染问题严重而在绿色环境方面存在问题。

从很早以前日本的松下社(Matushida)就有以下事例：为了实现高分辨率，开发出光刻法及其材料以用于形成PDP障壁，并进行批量应用，由此成功地实现了产品化，但是以目前的标准来看，存在采用对光敏性障壁材料进行两次曝光的工序来实施该方法等工序上的繁琐和材料的局限性。

发明内容

为了解决上述现有技术的问题，本发明的目的在于提供一种PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物不仅能够利用一次光刻工序形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形，而且能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度，从而能够形成安全的障壁图案。

本发明的其他目的在于提供一种PDP障壁形成方法和以上述方法形成的障壁，该方法适合于利用紫外线照射的光刻法，并且能够实现工序的简单化(能够一次涂布、一次曝光等)和低成本化。

为了达到上述目的，本发明提供一种PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物包含a)无机成分以及b)光敏性有机成分，所述无机成分含有i)玻璃粉末和ii)填料，

所述组合物的特征在于，所述填料包含至少70重量％的α-石英(quartz)。

优选上述填料相对于100重量份PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物为0.1重量份～20重量份。

此外，本发明提供PDP障壁形成方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

a)将上述PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物涂布到将要形成障壁的基板上并对涂布后的基板进行干燥；和

b)利用光刻法将上述经干燥的基板形状化为障壁；和

c)对上述经形状化的障壁进行烧制。

此外，本发明提供以上述方法制造出的PDP障壁。

本发明的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物适合于利用紫外线照射的光刻法，并且不仅能够利用一次曝光工序形成障壁不损坏且具有优异的烧制外形的障壁，而且能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度，从而能够形成安全的障壁图案。此外，本发明的光敏性糊剂组合物适合于利用紫外线照射的光刻法，并且能够实现工序的简单化(能够一次印刷、一次曝光等)和低成本化。

具体实施方式

下面，详细说明本发明。

本发明的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物为包含a)无机成分以及b)光敏性有机成分的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，所述无机成分含有i)玻璃粉末和ii)填料，所述组合物的特征在于，所述填料包含至少70重量％的α-石英。