[发明专利]电子照相感光体、处理盒和成像设备有效
申请号: | 200810088627.1 | 申请日: | 2008-03-31 |
公开(公告)号: | CN101286018A | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 山田涉;额田克己;古城由贵子 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G5/04 | 分类号: | G03G5/04;G03G5/047;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;谢栒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 处理 成像 设备 | ||
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和成像设备。
背景技术
近年来,随着具有充电单元、曝光单元、显影单元、转印单元和定影单元的所谓静电复印方式的成像设备的各构成部件和系统的技术发展,提高了成像设备的速度和可靠性。因而,对各子系统的高速适应性和高度可靠性的要求比以往更高。关于所述成像设备中使用的调色剂,已经尝试例如减小调色剂的粒径、使其粒度分布均一化(抑制粒度的波动)以及使调色剂颗粒球形化。作为满足这样的品质要求的调色剂,已经积极开发了在以水作为主要成分的溶剂中制造的调色剂或所谓的化学调色剂。
特别是,强烈要求用于写入图像的电子照相感光体具有高速适应性和高度可靠性。为实现高速适应性和高度可靠性,具体而言,已经对电荷产生材料进行了积极的研究和开发。例如,已知有很多报道是关于已知作为电子照相感光体中使用的电荷产生材料的酞菁化合物的晶型与电子照相特性之间的关系。
通常已知酞菁化合物可根据其制造方法或处理方法分为几种晶型,晶型的差异会显著影响酞菁化合物的光电转换特性。关于非金属酞菁化合物的晶型,已知有诸如α型、β型、π型、γ型和X型等晶型。另外也有许多报道关于镓酞菁晶体的晶型和电子照相特性。据报道羟基镓酞菁对于CuKα特征X射线在7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有极高的灵敏度和衍射峰,包含该羟基镓酞菁的电子照相感光体具有优异的感光度、循环特性和环境稳定性(Journal ofImaging Science and Technology,第40卷,第3期,5月/6月,249(1996),参见特开平5-263007和7-53892号公报)。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种电子照相感光体,所述电子照相感光体具有令人满意的充电特性,可长期实现细线再现性和半色调图像的高画质,且不会产生图像缺陷。本发明的另一个目的是提供使用所述电子照相感光体的处理盒和使用所述电子照相感光体的成像设备。
上述目的通过下述技术方案得以解决。
本发明的第一方案提供一种电子照相感光体,所述电子照相感光体具有导电性(电传导的)支持体和感光层。所述感光层设置在所述导电性支持体上,并且具有在同一层中至少包含电荷产生材料和具有三键和羟基的化合物的层。
根据第一方案,可以得到令人满意的充电特性,不会产生图像缺陷,且能够长期实现细线再现性和半色调图像的高画质。
本发明的第二方案提供第一方案中描述的电子照相感光体,其中,所述具有三键和羟基的化合物由下式(A-1)表示:
在式(A-1)中,l和m各自独立地表示0或0以上的整数,n表示自然数,R1、R2、R3和R4各自独立地表示一价有机基团。
根据第二方案,可更有效的实现例如令人满意的充电特性、无图像缺陷和长期的高画质等效果。
本发明的第三方案提供第二方案中描述的电子照相感光体,其中,式(A-1)中的R1、R2、R3和R4中的至少一个基团表示支化烷基。
根据第三方案,可更有效的实现例如令人满意的充电特性、无图像缺陷和长期的高画质等效果。
本发明的第四方案提供第三方案中描述的电子照相感光体,其中,式(A-1)中的R1、R2、R3和R4各自表示具有1~20个碳原子的烷基,1为300或300以下,m为300或300以下,n为0~100的整数。
根据第四方案,可更有效的实现例如令人满意的充电特性、无图像缺陷和长期的高画质等效果。
本发明的第五方案提供第一方案中描述的电子照相感光体,其中,在所述包含具有三键和羟基的化合物的层中,所述具有三键和羟基的化合物的含量相对于该层的总固体含量来说为0.01重量%~10质量%。
根据第五方案,可更有效的获得诸如电荷产生材料在所述层中的均一分布等效果。
本发明的第六方案提供第一方案中描述的电子照相感光体,其中,在所述包含具有三键和羟基的化合物的层中,所述具有三键和羟基的化合物的含量相对于该层的总固体含量来说为0.1重量%~0.5质量%。
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