[发明专利]外观检查装置有效
申请号: | 200810087937.1 | 申请日: | 2008-03-25 |
公开(公告)号: | CN101276770A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 横田敦俊;仓田俊辅 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01N21/95 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 外观 检查 装置 | ||
技术领域
本发明涉及对晶片等工件的周缘部进行外观检查的外观检查装置。
背景技术
在半导体晶片等工件上形成电路等的图案时,有时由于热处理会在工件上产生翘曲或内部应力。当工件的翘曲或内部应力增大时,有时工件在电路的制造中途裂开,因此,公知有通过预先对工件的周缘部进行观察,来检测有无将来可能发展为裂开的裂纹的技术。
作为观察工件的周缘部的装置,例如日本特开2003-243465号公报所公开的那样,有如下装置:接近工件的周缘部设置C型的照明部,在离开工件和照明部的位置上设置摄像机。照明部沿着工件的周缘部的厚度方向的预定圆弧形成照明面,以光朝向圆弧的中心会聚的方式放射照明光。摄像机配置成,位于来自照明部的照明光的反射光的明视场范围。
但是,在现有的装置结构中,如果不在明视场范围设置摄像机就无法获得像,因此,可观察的范围狭小。
在现有的照明部中,难以在宽的范围内明亮地对工件进行照明,因此,在移动摄像机时,无法良好地进行在明视场的观察。
为了详细地观察、分析工件的周缘部,优选能够进行在暗视场的观察,但是,在现有的装置结构中,无法进行在暗视场的观察。
发明内容
本发明是鉴于这种情况而完成的,其主要目的在于,能够在宽的区域进行良好的明视场观察。并且,另一目的在于,也可以进行在暗视场的观察。
本发明的外观检查装置的特征在于,该外观检查装置具有:周缘观察装置,其对支承在支承部上的工件的周缘部进行观察;和周缘照明装置,其对基于所述周缘观察装置的观察位置进行照明,所述周缘照明装置具有对位于观察位置的所述工件的周缘部进行照明的多个面光源,这些面光源以包围所述工件的周缘部的方式分别配置在位于观察位置的所述工件的周缘部的上方、下方和侧方。
在该外观检查装置中,当点亮以包围工件的周缘部的方式配置的多个面光源时,分别从工件的周缘部的上方、下方和侧方对工件进行照明。周缘观察装置从其他方向进行被照明的工件的周缘部的观察。
根据本发明,能够利用多个面光源明亮地对工件的周缘部进行照明,因此,即使改变利用周缘观察装置进行观察的位置,也能够获得清晰的像。
关于本发明的上述和其他目的、作用、效果等,根据附图和本发明的实施方式的记载,本领域技术人员将更加清楚。
附图说明
图1是示出本发明的实施方式的外观检查装置的概略结构的图。
图2是沿图1的A-A线的俯视图。
图3是沿图2的B-B线的侧视图。
图4是示出对工件的侧面进行观察时的状态的图。
图5是示出对工件的上表面进行观察时的状态的图。
图6是示出对工件的下表面进行观察时的状态的图。
图7是图2的箭头C方向的视图。
图8是示出周缘观察装置的变形例的图。
符号说明
1、71:外观检查装置;3:XYθ载物台;3A:支承部;5:周缘观察装置;6:周缘照明装置;14:第1反射镜(光学部件);21:上部照明(面光源);21A:孔(间隙);21B、22B、23B:发光面;22:下部照明(面光源);23:侧部照明(面光源);25:空间;W:晶片(工件)。
具体实施方式
参照附图详细说明用于实施本发明的最佳方式。但是,本发明本身当然不限于这些实施方式。
如图1所示,外观检查装置1在基座2上设有对工件即晶片W进行吸附保持的XYθ载物台3和Z载物台4。
XYθ载物台3具有支承晶片W的支承部3A,在支承部3A上设有对晶片W的背面的中央进行吸附保持的未图示的吸附部。XYθ载物台3构成为,使支承部3A能够沿在水平方向上正交的两个方向(X方向、Y方向)移动,且能够绕与XY方向正交的Z轴旋转。XYθ载物台3的驱动由未图示的电动机控制。电动机使用如伺服电动机或步进电动机那样可以精密定位的电动机。
Z载物台4使用利用电动机驱动使滑动件4A在Z方向升降的精密载物台。Z载物台4所使用的电动机也与上述同样为可以精密定位的电动机。在Z载物台4的滑动件4A上搭载有周缘观察装置5和周缘照明装置6。
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