[发明专利]吸收冲击效应的转向装置有效

专利信息
申请号: 200810086482.1 申请日: 2008-03-14
公开(公告)号: CN101264768A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 吴在文 申请(专利权)人: 万都株式会社
主分类号: B62D1/19 分类号: B62D1/19
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所 代理人: 翟羽
地址: 大韩民国京畿道*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 吸收 冲击 效应 转向 装置
【权利要求书】:

1.一种吸收冲击效应的转向装置,包括:

一支撑支架,用以支撑一外套管,以固定该外套管于一车辆的一底盘;以及

一平板支架,具有一侧边以及另一侧边,该侧边为开放式,该另一侧边与该支撑支架组装在一起,该支撑支架环绕该外套管;其特征在于:

该平板支架以固定方式组装于支撑支架,该支撑支架的导引内侧边上设置有至少一凸块,与该至少一凸块对应的,在该平板支架的两侧边的每一端部设置有至少一沟槽。

2.根据权利要求1所述的转向装置,其特征在于:该凸块的宽度大于该沟槽的宽度。

3.根据权利要求1所述的转向装置,其特征在于:该凸块设置一外观形状,该外观形状为连续形成一均匀宽度以及一预定长度,且该均匀宽度逐渐缩小。

4.一种吸收冲击效应的转向装置,包括:

一支撑支架,用以支撑一外套管,以固定该外套管于一车辆的一底盘;以及

一平板支架,具有一侧边以及另一侧边,该侧边为开放式,该另一侧边与该支撑支架组装在一起,该支撑支架环绕该外套管;其特征在于:

该平板支架以固定方式组装于支撑支架,在该平板支架的两侧边的每一端部设置有至少一凸块,与该至少一凸块对应的,在该支撑支架的导引内侧边上设置有至少一沟槽。

5.根据权利要求4所述的转向装置,其特征在于:该沟槽的宽度小于该凸块的宽度。

6.根据权利要求4所述的转向装置,其特征在于:该沟槽设置一外观形状,该外观形状为连续形成一均匀宽度以及一预定长度,该均匀宽度逐渐变大。

7.根据权利要求1所述的转向装置,其特征在于:该转向装置还包括至少一第一模造沟槽以及一第二模造沟槽,该第一模造沟槽伸入贯穿该凸块,该第二模造沟槽设置于该沟槽,且该第二模造沟槽对应于该第一模造沟槽,一模造件伸入至该第一模造沟槽以及该第二模造沟槽。

8.根据权利要求7所述的转向装置,其特征在于:该沟槽的宽度小于该平板支架的宽度,且该沟槽的长度大于或是等于该支撑支架的该凸块的长度。

9.根据权利要求7所述的转向装置,其特征在于:该第一模造沟槽以及该第二模造沟槽为孔洞形状。

10.根据权利要求7所述的转向装置,其特征在于:该第一模造沟槽以及该第二模造沟槽为槽缝形状。

11.根据权利要求7所述的转向装置,其特征在于:该第二模造沟槽到达该平板支架的一凸角部的内部。

12.根据权利要求7所述的转向装置,其特征在于:该第二模造沟槽贯穿该平板支架的该凸角部。

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