[发明专利]一种新型高效多肽合成脱保护剂

说明书

技术领域

本发明是涉及多肽合成，特别是多肽Fmoc固相合成中的氨基脱保护剂。

背景技术

1963年Merrifield成功地合成了多肽，因此多肽的固相合成逐渐发展。多肽合成是一个重复添加氨 基酸的过程，固相合成顺序一般从C端(羧基端)向N端(氨基端)合成。先将组成目的肽的氨基酸改造 成氨基末端带有保护基的氨基酸，在Boc和Fmoc合成法中氨基酸都是N-α-氨基酸保护的。羧基端是游离 的，并且在反应之前氨基端必须先脱保护和羧基端活化，然后缩合接长肽链。固相合成方法有两种，即Fmoc 和Boc。Boc合成法用TFA酸脱保护，但不适用含有色氨酸等对酸不稳定的肽类的合成由于酸会使肽从树 脂上脱落，损失严重，而且酸处理也会引起侧链的副反应。Fmoc法克服以上缺点用弱碱性的哌啶/DMF＝1∶4 为脱保护剂，但此脱保护剂也不能很好地去氨基保护，影响下步的缩合反应，合成的多肽速率低、纯度不 高，而且消耗的有机溶剂量也很大，生产成本高。

发明内容

为了避免多肽合成时不完全的脱保护和产生副反应而引起的多肽生产成本高、纯度低的缺点。本发明 通过对脱保护剂配方的设计，提高氨基的去保护效率，合成高纯度的多肽，并节约了生产成本。

本发明的技术方案是

配方：哌啶            0.1％-10％

      DBU             0.1％-5％

      HOBt            0.5％-5％

      Trition x-100   0.1％-2％

其中溶剂为DMF，哌啶、DBU、Trition x-100是体积比组分，HOBt是重量比组分。

通过在常规的脱保护剂哌啶/DMF中加入活化剂HOBt和表面活性剂Trition x-100，催化剂DBU。HOBt 是活化剂，能使合成时反应快、消旋少、副反应少；Trition x-100表面活性剂能使多肽舒展开，使脱保护 完全和高效接上下个氨基酸；DBU作为催化剂，是柔和的碱，易去除氨基保护基，而且哌啶在有DBU存 在下更促使氨基Fmoc保护基团脱除。

选用以上配方的合适比例范围，节省了脱保护中使用有机试剂哌啶等用量，还高效地去除氨基保护， 并易缩合，从而使合成反应加快，合成高纯度的多肽。

该配方的脱保护剂经过在多次多种多肽固相合成的试验中，证明其效果比其他的脱保护剂明显，合 成的多肽纯度高。其中哌啶最适配比是0.5％-7％，DBU的最适配比是0.5％-3％，HOBt的最适配比是1 ％-2％，Trition x-100的最适配比是0.5％-1％。

本发明的效益在于该脱保护剂可以高效地脱除氨基保护，促进缩合反应。使多肽合成速度加快，纯度 高，减少了合成中有机试剂的使用量，降低了多肽合成的成本。

具体实施方式

实施例1

配方：哌啶0.5％，DBU 0.5％，HOBt 1％，Trition x-100 0.5％，余量为DMF。

在胸腺α₁合成中使用该配方脱除氨基保护，经检测，合成粗肽纯度大于75％。在相同的实验条件下， 使用传统的脱保护剂，合成粗肽纯度小于50％。

实施例2

配方：哌啶0.1％，DBU 0.1％，HOBt 0.5％，Trition x-100 0.1％，余量为DMF。

在胸腺α₁合成中使用该配方脱除氨基保护，经检测，最终粗肽纯度大于70％。

在相同的实验条件下，使用传统的脱保护剂，最终粗肽纯度小于50％。

实施例3

配方：哌啶10％，DBU 5％，HOBt 5％，Trition x-100 2％，余量为DMF。

在胸腺α₁合成中用该配方脱除氨基保护，经检测，合成粗肽纯度大于70％，在相同的实验条件下， 使用传统的脱保护剂，合成粗肽纯度小于50％。