[发明专利]等离子体处理容器内部件以及等离子体处理装置

说明书

本申请是申请日为2001年12月7日、申请号为01820477.5(PCT/JP01/10715)、发明名称为“等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置”的专利申请的分案申请。 

技术领域

本发明涉及等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置。 

背景技术

本发明涉及等离子体处理容器的再生方法和等离子体处理容器内部部件及其制造方法，以及等离子体处理装置，特别是能够将因在等离子体中使用而造成表面劣化的部件再生得如同新品一样的等离子体处理容器的再生方法。 

在制造使用半导体和液晶等的设备的工序中，一般使用蚀刻装置等等离子体处理装置。在这些等离子体处理装置内(等离子体处理容器内)，由于使用了CF₄等活性气体作为处理气体，所以内部部件容易遭受化学损伤，而且由于存在由等离子体激发的离子等，很容易因腐蚀受损。 

因此，在过去，等离子体处理容器的内部部件是用等离子体消耗少的覆膜对铝材等基材的表面进行覆盖保护。特别是氧化铝、稀土族氧化物等的喷镀膜，因等离子体消耗少，而被用作覆膜。并且，在以铝等为材料的等离子体处理容器内部部件的基材上，设置厚度为例如1.5mm的聚酰亚胺板，以保护该部件。 

另一方面，在这种等离子体处理装置中，在处理室内的预定位置上配置有聚焦环或屏蔽环等许多具有导电性或绝缘性的可更换部件(下 面称为“装置部件”)。 

因此，在上述等离子体处理装置中，由于处理室内生成的等离子体可使装置部件的表面被削去而变形，所以需要将这样的产生变形的部件作为消耗品而废弃掉，换上新的部件。 

但是，喷镀膜在长时间的使用后，不可避免地由表面开始劣化，膜厚减少，由于这种膜厚的减少状况决定了内部部件的寿命，使用过的部件必须更换为新的，因此不经济。而且喷镀膜的表面有许多凹凸部分，特别是在凸起的部分，在等离子体处理容器内部部件的使用初期，容易形成与处理气体反应生成的生成物颗粒，而有可能导致制品不合格。 

同样，在设置聚酰亚胺等板的情况下，一旦表面劣化，也需要更换，而基材和树脂板之间不可避免地会有间隙，存在着因密闭性差而使污物泄漏等问题。 

另外，对于上述可更换的装置部件，在装置部件因消耗而变形的情况下，如上所述，存在将该变形的部件作为消耗品废弃掉、更换上新的部件的情况。但是，问题在于，如此经常用新部件更换所消耗的装置部件会提高成本，且当新部件没有库存时，生产线不得不停止生产。 

鉴于现有等离子体处理容器的内部部件所具有的上述问题，本发明的目的在于，提供可再生出如同新品一样的、新的且经过改良的等离子体处理容器的再生方法与等离子体处理容器的内部部件和等离子体处理容器的制造方法和等离子体处理装置。 

其目的还在于提供一种等离子体处理容器的再生方法，使得即使在装置部件的一部分形状变形的情况下，也能够以简单的方法修复作为替代品的装置部件。 

发明内容

为了解决上述问题，本申请的第一发明，其特征在于，在基材的表面覆盖有氧化铝、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中的任意一种喷镀膜的等离子体处理容器内部部件的、随着使用而发生劣化的喷镀膜上，再喷镀与上述喷镀膜同样的材料。由此就能够使因在等离 子体中使用而表面发生劣化的等离子体处理容器再生得如同新品一样。 

作为更优选的形态，在上述再喷镀以前，也可以设置干冰喷射工序。这样就可以抑制初期颗粒的产生。 

作为更优选的形态，还可以在上述再喷镀后设置干冰喷射工序。 

本申请的第二方面，是在配置于上述等离子体处理容器内预定位置的上述部件的一部分形状发生改变的情况下，通过等离子体处理除去该变形的部件，然后，将制成变形之前的形状的部件接合在除去了上述变形部分的地方。 

按照上述方法，在装置部件的一部分形状发生变形的情况下，通过只将该变形部分更换为按照变形前的形状制成的部件，就不需将该装置部件整体换成新品，以简单的操作就能够将该装置部件复原为原来的形状。 

本申请的第三方面，是一种等离子体处理容器的内部部件，其特征在于，基材的表面覆有氧化铝、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑当中任何一种喷镀膜，在喷镀以后，对上述任何一种喷镀膜进行干冰喷射。